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仪器分析

器件进水、气泡与内部缺陷

Moisture, Bubble & Internal-defect Detection

定位内部声学异常区,区分气泡状、界面状和渗入路径状分布并结合层序判读,其中比较声衰减、回波位置和局部异常图形,定位封装内部液体、气泡和非均匀区。表面附着气泡先通过重复耦合排除,内部异常由门位、回波极性和连续切片共同定位。

检测内容
进水与气泡 · C扫描成像
适用对象
进水与气泡:比较声衰减、回波位置和局部异常图形,定位封装内部液体、气泡和非均匀区,结果用于定位内部声学异常区,区分气泡状、界面状和渗入路径状分布并结合层序判读 · C扫描成像:在选定声程门内逐点绘制回波幅度或极性图,展示同一深度界面的缺陷分布,测量位置按以下方式布置:围绕密封边缘、灌封区和电性异常坐标开展多门位扫描
方法标准
GB/T 4937.35-2024 · IEC 60749-35:2006
报告交付
器件进水、气泡与内部缺陷技术报告及主要结论 · 多门位C扫、异常A扫与B扫、声衰减分布和位置对照
项目受理登记对象、检测目标和报告用途
样品登记登记数量、状态和制样要求
过程质控记录检测条件并审核原始数据
报告交付交付结果、附件和技术说明
01

检测范围

检测范围检测内容与适用对象

器件进水、气泡与内部缺陷主要检测进水与气泡、C扫描成像,服务对象包括进水与气泡:比较声衰减、回波位置和局部异常图形、C扫描成像:在选定声程门内逐点绘制回波幅度或极性图,覆盖来样登记、检测实施和报告交付。

01核心检测项目

进水与气泡

比较声衰减、回波位置和局部异常图形,定位封装内部液体、气泡和非均匀区,采集区域:围绕密封边缘、灌封区和电性异常坐标开展多门位扫描。

02适用产品与样品

进水与气泡:比较声衰减、回波位置和局部异常图形,定位封装内部液体、气泡和非均匀区,结果用于定位内部声学异常区,区分气泡状、界面状和渗入路径状分布并结合层序判读

C扫描成像:在选定声程门内逐点绘制回波幅度或极性图,展示同一深度界面的缺陷分布,测量位置按以下方式布置:围绕密封边缘、灌封区和电性异常坐标开展多门位扫描

03委托资料与样品

样品、目标参数和报告用途

样品形式:密封器件、灌封组件、连接器和疑似含水或气泡的封装结构

04报告与交付内容

器件进水、气泡与内部缺陷检测报告 + 检测数据与图表

器件进水、气泡与内部缺陷技术报告及主要结论

技术说明

项目技术要点

实施流程

1. 读取密封层序与环境履历,规划多个界面声程门;2. 排除表面气泡并完成探头焦点、增益和水程设置;3. 采集基准件和目标件的多门位C扫及代表A扫;4. 对衰减或异常回波区复扫并生成纵向B扫;5. 交付异常声学分布、深度位置、波形和对照图

频率选择

高频提升平面分辨率但穿透能力降低,探头按封装厚度和目标界面深度配置,样品资料:提供密封结构、环境试验、泄漏或电性现象、异常时间和目标区域。

闸门设置

每个声程门对应特定界面,门起止位置、检波方式和回波极性随原始波形保存,测量位置:围绕密封边缘、灌封区和电性异常坐标开展多门位扫描。

耦合状态

表面气泡、粗糙度和倾斜会形成假缺陷,扫描前排气并检查正常区回波连续性,对照数据:将环境试验前后样或异常件与同结构基准件比较声衰减、回波和异常图形。

结构解释

金属、硅、塑封料和胶层的声阻抗差异决定回波,异常图与器件层序共同定位,结果解释:表面附着气泡先通过重复耦合排除,内部异常由门位、回波极性和连续切片共同定位。

02

适用产品与样品

器件进水、气泡与内部缺陷适用于以下产品、样品及技术问题。

适用产品与技术问题

  • 进水与气泡:比较声衰减、回波位置和局部异常图形,定位封装内部液体、气泡和非均匀区,结果用于定位内部声学异常区,区分气泡状、界面状和渗入路径状分布并结合层序判读
  • C扫描成像:在选定声程门内逐点绘制回波幅度或极性图,展示同一深度界面的缺陷分布,测量位置按以下方式布置:围绕密封边缘、灌封区和电性异常坐标开展多门位扫描
  • 检测对象:密封器件、灌封组件、连接器和疑似含水或气泡的封装结构
  • 测量位置:围绕密封边缘、灌封区和电性异常坐标开展多门位扫描
  • 数据判读:定位内部声学异常区,区分气泡状、界面状和渗入路径状分布并结合层序判读
03

样品与委托资料

送样信息包括材质、形态、批次、保存条件、目标参数及制样要求。

  1. 01

    样品形式:密封器件、灌封组件、连接器和疑似含水或气泡的封装结构

  2. 02

    制样与装夹:清洁声入射面并排尽耦合气泡,按器件层序设置多个声程门

  3. 03

    随样资料:提供密封结构、环境试验、泄漏或电性现象、异常时间和目标区域

  4. 04

    对照样品:将环境试验前后样或异常件与同结构基准件比较声衰减、回波和异常图形

  5. 05

    位置记录:围绕密封边缘、灌封区和电性异常坐标开展多门位扫描

所需样品量样品量与制样要求

样品形式:密封器件、灌封组件、连接器和疑似含水或气泡的封装结构。样品量包含制样损耗、平行样和留样需求。

检测周期项目周期与交付日期

器件进水、气泡与内部缺陷列明样品、项目、方法、开始时间与报告交付日期,并同步安排复杂前处理和多模块测试。

报告类型器件进水、气泡与内部缺陷检测报告 · 检测数据与图表 · 测试条件与质控记录

主要提供器件进水、气泡与内部缺陷技术报告及主要结论、多门位C扫、异常A扫与B扫、声衰减分布和位置对照,其他数据和附件在委托单中列明。

实施方式实验室来样检测

收样、制样、测试、数据复核和报告输出由项目负责人统一衔接。

04

检测项目

01

进水与气泡

比较声衰减、回波位置和局部异常图形,定位封装内部液体、气泡和非均匀区,采集区域:围绕密封边缘、灌封区和电性异常坐标开展多门位扫描。

02

C扫描成像

在选定声程门内逐点绘制回波幅度或极性图,展示同一深度界面的缺陷分布,对照组合:将环境试验前后样或异常件与同结构基准件比较声衰减、回波和异常图形。

03

A扫描波形

保存典型正常点和异常点时域回波,用于判断界面顺序、回波极性及异常深度,样品资料:提供密封结构、环境试验、泄漏或电性现象、异常时间和目标区域。

04

B扫描截面

沿目标线生成声学截面,观察分层、空洞或裂纹在厚度方向的位置,数据判读:表面附着气泡先通过重复耦合排除,内部异常由门位、回波极性和连续切片共同定位。

05

频率选择

高频提升平面分辨率但穿透能力降低,探头按封装厚度和目标界面深度配置,并结合表面附着气泡先通过重复耦合排除,内部异常由门位、回波极性和连续切片共同定位。

05

检测方法与实施流程

现有设备和检测能力器件进水、气泡与内部缺陷所需的检测、制样、质量控制和数据分析条件齐备,受理进水与气泡、C扫描成像。
01

检测需求

围绕器件进水、气泡与内部缺陷列明样品、目标参数、方法标准和报告用途。

02

样品登记

样品形式:密封器件、灌封组件、连接器和疑似含水或气泡的封装结构

03

完成前处理或制样

根据器件进水、气泡与内部缺陷和进水与气泡、C扫描成像的测试条件处理样品。

04

完成仪器测试

使用器件进水、气泡与内部缺陷按规定参数完成进水与气泡、C扫描成像和过程质量控制。

05

复核检测数据

重点检查进水与气泡、C扫描成像对应的图谱、曲线、图像或数据表。

06

交付报告和附件

提供器件进水、气泡与内部缺陷技术报告及主要结论、多门位C扫、异常A扫与B扫、声衰减分布和位置对照及约定附件。

06

标准与方法依据

以下列出器件进水、气泡与内部缺陷采用的正式标准与执行依据,包含标准编号、适用项目和发布来源。

2 项标准共列出 2 项标准与方法。

共 2 项

GB/T 4937.35-2024中国标准半导体器件 机械和气候试验方法 第35部分:塑封电子元器件的声学显微镜检查GB/T 4937.35-2024用于器件进水、气泡与内部缺陷中的塑封电子元器件分层、裂纹、空洞和封装内部异常声学成像。国家市场监督管理总局、国家标准化管理委员会 · 现行/Published · 查看发布机构来源
IEC 60749-35:2006国际标准Semiconductor devices — Mechanical and climatic test methods — Part 35: Acoustic microscopy for plastic encapsulated electronic componentsIEC 60749-35:2006用于器件进水、气泡与内部缺陷中的塑封电子元器件分层、裂纹、空洞和封装内部异常声学成像。International Electrotechnical Commission · 现行/Published · 查看发布机构来源
07

报告与交付内容

器件进水、气泡与内部缺陷检测报告检测数据与图表测试条件与质控记录约定附件
器件进水、气泡与内部缺陷技术报告及主要结论
多门位C扫、异常A扫与B扫、声衰减分布和位置对照
原始资料:进水与气泡数据;提供密封结构、环境试验、泄漏或电性现象、异常时间和目标区域
位置资料:围绕密封边缘、灌封区和电性异常坐标开展多门位扫描
对照资料:将环境试验前后样或异常件与同结构基准件比较声衰减、回波和异常图形
常见报告用途
定位内部声学异常区,区分气泡状、界面状和渗入路径状分布并结合层序判读器件进水、气泡与内部缺陷数据积累:提供密封结构、环境试验、泄漏或电性现象、异常时间和目标区域复测与取样导航:围绕密封边缘、灌封区和电性异常坐标开展多门位扫描工艺与状态比较:将环境试验前后样或异常件与同结构基准件比较声衰减、回波和异常图形
报告与结果说明

报告列明实际样品、检测方法、测试条件、结果和约定附件。

报告同步提供质量控制、数据复核和判定依据等项目记录。

样品、批次、工况或标准发生变化时,按新条件开展补充检测。

报告支持CMA/CNAS标识、合格判定及英文版本,相关要求可在需求表中注明。
08

常见问题

01器件进水、气泡与内部缺陷的进水与气泡数据怎样解读?

比较声衰减、回波位置和局部异常图形,定位封装内部液体、气泡和非均匀区,定位内部声学异常区,区分气泡状、界面状和渗入路径状分布并结合层序判读。

02器件进水、气泡与内部缺陷的进水与气泡样品怎样送?

密封器件、灌封组件、连接器和疑似含水或气泡的封装结构,清洁声入射面并排尽耦合气泡,按器件层序设置多个声程门。

03器件进水、气泡与内部缺陷的进水与气泡制样与资料怎样准备?

清洁声入射面并排尽耦合气泡,按器件层序设置多个声程门,提供密封结构、环境试验、泄漏或电性现象、异常时间和目标区域。

04器件进水、气泡与内部缺陷的进水与气泡不同状态怎样比较?

将环境试验前后样或异常件与同结构基准件比较声衰减、回波和异常图形,探头、焦点、增益、声程门和扫描步长保持一致。

05器件进水、气泡与内部缺陷的进水与气泡取样位置怎样布置?

围绕密封边缘、灌封区和电性异常坐标开展多门位扫描,清洁声入射面并排尽耦合气泡,按器件层序设置多个声程门。

06器件进水、气泡与内部缺陷的进水与气泡采集参数怎样管理?

表面附着气泡先通过重复耦合排除,内部异常由门位、回波极性和连续切片共同定位,探头、焦点、增益、声程门和扫描步长保持一致。

07器件进水、气泡与内部缺陷的进水与气泡图表与数据怎样整理?

多门位C扫、异常A扫与B扫、声衰减分布和位置对照,提供密封结构、环境试验、泄漏或电性现象、异常时间和目标区域。

08器件进水、气泡与内部缺陷的进水与气泡怎样支持异常排查?

定位内部声学异常区,区分气泡状、界面状和渗入路径状分布并结合层序判读,将环境试验前后样或异常件与同结构基准件比较声衰减、回波和异常图形。

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