本页说明
GB/T 42676-2023《半导体单晶晶体质量的测试 X射线衍射法》由全国标准信息公共服务平台发布。半导体单晶晶体质量的测试 X射线衍射法规定薄膜、涂层与半导体材料单晶XRD的测量原理、仪器条件、数据采集和结果记录要求。在本站对应薄膜、涂层与半导体材料单晶XRD、薄膜、涂层与半导体材料广角X射线散射 WAXS，相关项目记录样品、仪器条件、原始数据和结果。
适用对象与条件
- 半导体单晶晶体质量的测试 X射线衍射法规定薄膜、涂层与半导体材料单晶XRD的测量原理、仪器条件、数据采集和结果记录要求。
- GB/T 42676-2023用于薄膜、涂层与半导体材料广角X射线散射 WAXS中半导体单晶晶体质量的X射线衍射测试。
- 薄膜、涂层与半导体材料单晶XRD项目中的标准应用与数据记录
- 薄膜、涂层与半导体材料广角X射线散射 WAXS项目中的标准应用与数据记录
- 半导体单晶晶体质量的测试 X射线衍射法在薄膜、涂层与半导体材料单晶XRD、薄膜、涂层与半导体材料广角X射线散射 WAXS中的标准专属应用记录
- GB/T 42676-2023《半导体单晶晶体质量的测试 X射线衍射法》对应的样品、仪器条件、原始数据与结果记录
主要要求与方法
无损检测
GB/T 42676-2023《半导体单晶晶体质量的测试 X射线衍射法》在薄膜、涂层与半导体材料单晶XRD、薄膜、涂层与半导体材料广角X射线散射 WAXS中的执行重点为：半导体单晶晶体质量的测试 X射线衍射法规定薄膜、涂层与半导体材料单晶XRD的测量原理、仪器条件、数据采集和结果记录要求。
测试条件
按半导体单晶晶体质量的测试 X射线衍射法对应的仪器项目登记样品、制样过程、测量程序和实际采集条件
质量控制
将薄膜、涂层与半导体材料单晶XRD、薄膜、涂层与半导体材料广角X射线散射 WAXS的仪器型号、校准核查、空白或标准样数据与原始结果关联
形貌与缺陷观察
保存GB/T 42676-2023项目形成的光谱、色谱、图像、曲线、计算过程和重复结果
方法、条件与注意事项
标准说明
GB/T 42676-2023《半导体单晶晶体质量的测试 X射线衍射法》由全国标准信息公共服务平台发布。半导体单晶晶体质量的测试 X射线衍射法规定薄膜、涂层与半导体材料单晶XRD的测量原理、仪器条件、数据采集和结果记录要求。在本站对应薄膜、涂层与半导体材料单晶XRD、薄膜、涂层与半导体材料广角X射线散射 WAXS，相关项目记录样品、仪器条件、原始数据和结果。
标准专属应用
- 半导体单晶晶体质量的测试 X射线衍射法规定薄膜、涂层与半导体材料单晶XRD的测量原理、仪器条件、数据采集和结果记录要求。 - GB/T 42676-2023用于薄膜、涂层与半导体材料广角X射线散射 WAXS中半导体单晶晶体质量的X射线衍射测试。
相关仪器项目
GB/T 42676-2023在本站关联以下仪器项目： - [薄膜、涂层与半导体材料单晶XRD](/services/instrument-testing/phase-crystal/single-crystal-xrd/single-crystal-xrd-films-coatings-and-semiconductor-materials) - [薄膜、涂层与半导体材料广角X射线散射 WAXS](/services/instrument-testing/phase-crystal/wide-angle-x-ray-scattering-waxs/wide-angle-x-ray-scattering-waxs-films-coatings-and-semiconductor-materials)
方法实施与记录
GB/T 42676-2023《半导体单晶晶体质量的测试 X射线衍射法》在薄膜、涂层与半导体材料单晶XRD、薄膜、涂层与半导体材料广角X射线散射 WAXS中的应用重点为：半导体单晶晶体质量的测试 X射线衍射法规定薄膜、涂层与半导体材料单晶XRD的测量原理、仪器条件、数据采集和结果记录要求。GB/T 42676-2023项目实施记录包含样品与制样信息、实际仪器条件、测量程序、校准核查、原始数据和计算结果。
样品与项目信息
标明GB/T 42676-2023标准编号、样品名称、材质或组成、批次、数量和报告用途；围绕薄膜、涂层与半导体材料单晶XRD、薄膜、涂层与半导体材料广角X射线散射 WAXS提交待测参数、样品状态、取样位置和已有技术资料；样品包装、标识、保存和运输与半导体单晶晶体质量的测试 X射线衍射法对应的项目对象保持一致。样品编号与薄膜、涂层与半导体材料单晶XRD、薄膜、涂层与半导体材料广角X射线散射 WAXS的测量位置、前处理过程和原始记录保持对应。
数据与质量控制
薄膜、涂层与半导体材料单晶XRD、薄膜、涂层与半导体材料广角X射线散射 WAXS形成的光谱、色谱、图像、曲线或数值结果按GB/T 42676-2023项目分别保存；半导体单晶晶体质量的测试 X射线衍射法相关的仪器状态、校准核查、空白、标准样、平行样和重复结果随原始数据归档。
报告与交付
GB/T 42676-2023《半导体单晶晶体质量的测试 X射线衍射法》执行信息与薄膜、涂层与半导体材料单晶XRD、薄膜、涂层与半导体材料广角X射线散射 WAXS实测结果；GB/T 42676-2023项目的样品信息、仪器条件和数据记录；薄膜、涂层与半导体材料单晶XRD、薄膜、涂层与半导体材料广角X射线散射 WAXS形成的原始光谱、色谱、图像、曲线或计算结果；GB/T 42676-2023标准项目、质量控制、重复结果和报告结论的对应记录。报告标明GB/T 42676-2023《半导体单晶晶体质量的测试 X射线衍射法》、实际关联仪器项目、样品信息、方法条件、质量控制和实测结果。
官方来源
全国标准信息公共服务平台发布的GB/T 42676-2023《半导体单晶晶体质量的测试 X射线衍射法》是本页标准信息来源，官方记录地址为https://std.samr.gov.cn/gb/search/gbDetailed?id=027A6096B059643EE06397BE0A0A0867。
需要结合哪些资料
- 半导体单晶晶体质量的测试 X射线衍射法规定薄膜、涂层与半导体材料单晶XRD的测量原理、仪器条件、数据采集和结果记录要求；薄膜、涂层与半导体材料单晶XRD、薄膜、涂层与半导体材料广角X射线散射 WAXS对应的代表性样品、平行样、对照样及项目资料
参考依据与来源
GB/T 42676-2023《半导体单晶晶体质量的测试 X射线衍射法》由全国标准信息公共服务平台发布。
标准编号：GB/T 42676-2023；标准名称：半导体单晶晶体质量的测试 X射线衍射法；发布机构：全国标准信息公共服务平台。
全国标准信息公共服务平台结果怎样使用
- GB/T 42676-2023《半导体单晶晶体质量的测试 X射线衍射法》执行信息与薄膜、涂层与半导体材料单晶XRD、薄膜、涂层与半导体材料广角X射线散射 WAXS实测结果
- GB/T 42676-2023项目的样品信息、仪器条件和数据记录
- 薄膜、涂层与半导体材料单晶XRD、薄膜、涂层与半导体材料广角X射线散射 WAXS形成的原始光谱、色谱、图像、曲线或计算结果
- GB/T 42676-2023标准项目、质量控制、重复结果和报告结论的对应记录
使用结果时需要结合的事项
- 薄膜、涂层与半导体材料单晶XRD、薄膜、涂层与半导体材料广角X射线散射 WAXS的方法实施记录；半导体单晶晶体质量的测试 X射线衍射法对应的研发与质量控制；GB/T 42676-2023项目的批次比较与结果复核
标准使用常见问题
01GB/T 42676-2023主要用于哪些仪器项目？
半导体单晶晶体质量的测试 X射线衍射法规定薄膜、涂层与半导体材料单晶XRD的测量原理、仪器条件、数据采集和结果记录要求。 GB/T 42676-2023《半导体单晶晶体质量的测试 X射线衍射法》在本站关联薄膜、涂层与半导体材料单晶XRD、薄膜、涂层与半导体材料广角X射线散射 WAXS，各项目保留标准编号、样品、仪器条件、原始数据和结果记录。
02半导体单晶晶体质量的测试 X射线衍射法对应哪些样品与记录？
样品与记录围绕薄膜、涂层与半导体材料单晶XRD、薄膜、涂层与半导体材料广角X射线散射 WAXS及标准专属应用说明组织。 半导体单晶晶体质量的测试 X射线衍射法规定薄膜、涂层与半导体材料单晶XRD的测量原理、仪器条件、数据采集和结果记录要求。项目资料关联样品名称、批次、取样位置、制样过程、仪器条件、质量控制和原始结果。
03GB/T 42676-2023项目如何记录方法实施？
方法记录以GB/T 42676-2023、半导体单晶晶体质量的测试 X射线衍射法和实际关联仪器项目为主线。 薄膜、涂层与半导体材料单晶XRD、薄膜、涂层与半导体材料广角X射线散射 WAXS分别记录仪器型号、测量程序、采集参数、校准核查、原始图谱或曲线及计算结果。
04GB/T 42676-2023报告包含哪些内容？
报告列出半导体单晶晶体质量的测试 X射线衍射法执行信息、关联项目实测结果和质量控制记录。 GB/T 42676-2023报告将薄膜、涂层与半导体材料单晶XRD、薄膜、涂层与半导体材料广角X射线散射 WAXS的样品信息、实际方法、仪器条件、原始数据、重复结果和结论逐项对应。