检测范围
纳米结构无损三维成像主要检测纳米CT重建、区域放大成像，服务对象包括纳米CT重建：在高几何放大或光学放大条件下采集投影并重建亚微米至微米体素数据，结果用于无损显示微结构内部形态并测量微裂纹、孔洞和界面连续性、区域放大成像：先以较大视场定位，覆盖来样登记、检测实施和报告交付。
纳米CT重建
在高几何放大或光学放大条件下采集投影并重建亚微米至微米体素数据，采集区域：先用整体扫描建立坐标，再对兴趣区实施局部高分辨重建。
纳米CT重建：在高几何放大或光学放大条件下采集投影并重建亚微米至微米体素数据，结果用于无损显示微结构内部形态并测量微裂纹、孔洞和界面连续性
区域放大成像：先以较大视场定位，再对目标局部实施高分辨扫描，实现结构与坐标衔接，测量位置按以下方式布置：先用整体扫描建立坐标，再对兴趣区实施局部高分辨重建
样品、目标参数和报告用途
样品形式：微机电结构、微通道、精细多孔体和含亚微米缺陷的小尺寸试样
纳米结构无损三维成像检测报告 + 检测数据与图表
纳米结构无损三维成像技术报告及主要结论
项目技术要点
实施流程
1. 根据目标尺度规划整体定位和局部放大两级扫描；2. 选择能量、曝光、投影数与相衬距离并检查剂量；3. 采集全角度投影，校正漂移、环状和束硬化伪影；4. 重建兴趣区并分割微通道、孔洞、裂纹或界面；5. 交付全局坐标、局部切片、三维模型和尺寸统计
视场与分辨率
提高放大倍数会缩小视场和允许样品尺寸，两级扫描兼顾定位范围与局部细节，样品资料：登记样品材料、外形尺寸、兴趣区、目标特征尺度和前序定位信息。
辐照管理
电池、聚合物和有机封装材料采用剂量分段，比较扫描前后外观与投影稳定性，测量位置：先用整体扫描建立坐标，再对兴趣区实施局部高分辨重建。
相位衬度
轻元素材料使用传播相衬时，边缘增强与真实尺寸分开处理，分割规则保留，对照数据：比较结构不同位置或工艺样的微通道、界面和细小缺陷几何。
分辨声明
空间分辨率由系统响应或标准样标定，并与重建体素及可识别结构尺度一并给出，结果解释：体素尺寸与实际空间分辨率分开记录，相衬边缘增强通过原始切片复核。
适用产品与样品
纳米结构无损三维成像适用于以下产品、样品及技术问题。
适用产品与技术问题
- 纳米CT重建：在高几何放大或光学放大条件下采集投影并重建亚微米至微米体素数据，结果用于无损显示微结构内部形态并测量微裂纹、孔洞和界面连续性
- 区域放大成像：先以较大视场定位，再对目标局部实施高分辨扫描，实现结构与坐标衔接，测量位置按以下方式布置：先用整体扫描建立坐标，再对兴趣区实施局部高分辨重建
- 检测对象：微机电结构、微通道、精细多孔体和含亚微米缺陷的小尺寸试样
- 测量位置：先用整体扫描建立坐标，再对兴趣区实施局部高分辨重建
- 数据判读：无损显示微结构内部形态并测量微裂纹、孔洞和界面连续性
样品与委托资料
送样信息包括材质、形态、批次、保存条件、目标参数及制样要求。
- 01
样品形式：微机电结构、微通道、精细多孔体和含亚微米缺陷的小尺寸试样
- 02
制样与装夹：先固定整体方向并完成低倍率定位，再围绕目标区域提高放大倍数
- 03
随样资料：登记样品材料、外形尺寸、兴趣区、目标特征尺度和前序定位信息
- 04
对照样品：比较结构不同位置或工艺样的微通道、界面和细小缺陷几何
- 05
位置记录：先用整体扫描建立坐标，再对兴趣区实施局部高分辨重建
样品形式：微机电结构、微通道、精细多孔体和含亚微米缺陷的小尺寸试样。样品量包含制样损耗、平行样和留样需求。
纳米结构无损三维成像列明样品、项目、方法、开始时间与报告交付日期，并同步安排复杂前处理和多模块测试。
主要提供纳米结构无损三维成像技术报告及主要结论、纳米CT局部切片、微结构三维模型、细小缺陷定量和全局坐标，其他数据和附件在委托单中列明。
收样、制样、测试、数据复核和报告输出由项目负责人统一衔接。
检测项目
纳米CT重建
在高几何放大或光学放大条件下采集投影并重建亚微米至微米体素数据，采集区域：先用整体扫描建立坐标，再对兴趣区实施局部高分辨重建。
区域放大成像
先以较大视场定位，再对目标局部实施高分辨扫描，实现结构与坐标衔接，对照组合：比较结构不同位置或工艺样的微通道、界面和细小缺陷几何。
材料相衬度
根据吸收或相位衬度区分密度接近的聚合物、碳材料和轻元素相，样品资料：登记样品材料、外形尺寸、兴趣区、目标特征尺度和前序定位信息。
微裂纹定量
追踪内部裂纹长度、开口、面积、分支及其与孔隙或夹杂的连接，数据判读：体素尺寸与实际空间分辨率分开记录，相衬边缘增强通过原始切片复核。
封装微连接
观察焊球、键合线、通孔、再布线层和界面空洞的三维位置与尺寸，应用方向：无损显示微结构内部形态并测量微裂纹、孔洞和界面连续性。
检测方法与实施流程
检测需求
围绕纳米结构无损三维成像列明样品、目标参数、方法标准和报告用途。
样品登记
样品形式：微机电结构、微通道、精细多孔体和含亚微米缺陷的小尺寸试样
完成前处理或制样
根据纳米结构无损三维成像和纳米CT重建、区域放大成像的测试条件处理样品。
完成仪器测试
使用纳米结构无损三维成像按规定参数完成纳米CT重建、区域放大成像和过程质量控制。
复核检测数据
重点检查纳米CT重建、区域放大成像对应的图谱、曲线、图像或数据表。
交付报告和附件
提供纳米结构无损三维成像技术报告及主要结论、纳米CT局部切片、微结构三维模型、细小缺陷定量和全局坐标及约定附件。
标准与方法依据
以下列出纳米结构无损三维成像采用的正式标准与执行依据，包含标准编号、适用项目和发布来源。
共 6 项
报告与交付内容
报告列明实际样品、检测方法、测试条件、结果和约定附件。
报告同步提供质量控制、数据复核和判定依据等项目记录。
样品、批次、工况或标准发生变化时，按新条件开展补充检测。
报告支持CMA/CNAS标识、合格判定及英文版本，相关要求可在需求表中注明。常见问题
01纳米结构无损三维成像的纳米CT重建可提取哪些参数？
在高几何放大或光学放大条件下采集投影并重建亚微米至微米体素数据，无损显示微结构内部形态并测量微裂纹、孔洞和界面连续性。
02纳米结构无损三维成像的纳米CT重建常见样品类型有哪些？
微机电结构、微通道、精细多孔体和含亚微米缺陷的小尺寸试样，先固定整体方向并完成低倍率定位，再围绕目标区域提高放大倍数。
03纳米结构无损三维成像的纳米CT重建送样资料需要哪些？
先固定整体方向并完成低倍率定位，再围绕目标区域提高放大倍数，登记样品材料、外形尺寸、兴趣区、目标特征尺度和前序定位信息。
04纳米结构无损三维成像的纳米CT重建比较样怎样安排？
比较结构不同位置或工艺样的微通道、界面和细小缺陷几何，体素、剂量、相衬距离、重建和分割规则保持一致。
05纳米结构无损三维成像的纳米CT重建哪些位置需要测？
先用整体扫描建立坐标，再对兴趣区实施局部高分辨重建，先固定整体方向并完成低倍率定位，再围绕目标区域提高放大倍数。
06纳米结构无损三维成像的纳米CT重建参数记录包括哪些？
体素尺寸与实际空间分辨率分开记录，相衬边缘增强通过原始切片复核，体素、剂量、相衬距离、重建和分割规则保持一致。
07纳米结构无损三维成像的纳米CT重建原始数据怎样交付？
纳米CT局部切片、微结构三维模型、细小缺陷定量和全局坐标，登记样品材料、外形尺寸、兴趣区、目标特征尺度和前序定位信息。
08纳米结构无损三维成像的纳米CT重建结果可用于哪些场景？
无损显示微结构内部形态并测量微裂纹、孔洞和界面连续性，比较结构不同位置或工艺样的微通道、界面和细小缺陷几何。