检测范围
获得颗粒三维尺寸、数量密度、团聚形态及多孔表面的纳米起伏，其中依据三维形貌分割颗粒，输出高度、横向尺寸、数量密度和团聚特征。横向粒径结合探针半径修正，高度和轮廓统计选择未重叠且完整落入视场的颗粒。
颗粒统计
依据三维形貌分割颗粒，输出高度、横向尺寸、数量密度和团聚特征，采集区域：颗粒统计使用多个不重叠视场，多孔样分别扫描孔口、孔壁可达区和基体平面。
对象与条件
颗粒统计：依据三维形貌分割颗粒，输出高度、横向尺寸、数量密度和团聚特征，结果用于获得颗粒三维尺寸、数量密度、团聚形态及多孔表面的纳米起伏 三维高度图：在指定扫描范围内记录表面高度矩阵，展示台阶、颗粒、孔洞、划痕和相界，测量位置按以下方式布置：颗粒统计使用多个不重叠视场，多孔样分别扫描孔口、孔壁可达区和基体平面 检测对象：均匀固定在平整基底上的颗粒、粉体涂布层和具有可达表面的多孔材料 测量位置：颗粒统计使用多个不重叠视场，多孔样分别扫描孔口、孔壁可达区和基体平面 数据判读：获得颗粒三维尺寸、数量密度、团聚形态及多孔表面的纳米起伏
需要注意的限制
粉末、颗粒与多孔材料原子力显微镜 AFM结果单个视场对应具体测区，整批和整体结构增加代表性测点；三维结构采用三维方法评价，并记录制样、真空、束流和图像阈值 粉末、颗粒与多孔材料原子力显微镜 AFM结果观察结果与实际取样位置和视场对应；三维结构采用三维方法评价，图像统计同步记录阈值及束流、真空、切割和抛光条件。 粉末、颗粒与多孔材料原子力显微镜 AFM结果对应实际收到的样品、采用的原子力显微镜 AFM条件和数据处理方法；样品或参数改变后按新条件复核可比性 仪器测试交付测量数据和技术说明；整批质量判定、产品认证、法定鉴定和监管事项按照相应程序实施
检测时需要注意什么
实施流程
1. 制备稀疏颗粒载片并用光学图检验分散均匀性；2. 校验探针状态并设置兼顾颗粒高度的反馈参数；3. 在多个区域采集高度、振幅和必要相位图；4. 分割完整颗粒并统计高度、等效宽度、数量和团聚；5. 按视场与批次汇总颗粒分布和多孔表面形貌
探针卷积
横向尺寸受探针尖端半径影响，高度信息更接近真实值，颗粒宽度解释附带探针信息，样品资料：记录粉末批次、分散介质、固定方式、粒级、探针半径和扫描面积。
反馈设置
扫描速度、增益和设定点影响跟踪质量，条纹、拖尾与双尖伪影在数据处理前排查，测量位置：颗粒统计使用多个不重叠视场，多孔样分别扫描孔口、孔壁可达区和基体平面。
平面处理
去倾斜和逐线校正保留真实波纹与台阶，处理阶数和掩膜区域写入数据记录，对照数据：按粒级、处理条件和批次比较颗粒高度、横向尺寸、团聚与表面粗糙度。
区域代表性
纳米视场与宏观表面差异通过多位置、多尺度图像衔接，统计结果标明总评定面积，结果解释：横向粒径结合探针半径修正，高度和轮廓统计选择未重叠且完整落入视场的颗粒。
适用产品与样品
粉末、颗粒与多孔材料原子力显微镜 AFM适用于以下产品、样品及技术问题。
适用产品和常见问题
- 颗粒统计：依据三维形貌分割颗粒，输出高度、横向尺寸、数量密度和团聚特征，结果用于获得颗粒三维尺寸、数量密度、团聚形态及多孔表面的纳米起伏
- 三维高度图：在指定扫描范围内记录表面高度矩阵，展示台阶、颗粒、孔洞、划痕和相界，测量位置按以下方式布置：颗粒统计使用多个不重叠视场，多孔样分别扫描孔口、孔壁可达区和基体平面
- 检测对象：均匀固定在平整基底上的颗粒、粉体涂布层和具有可达表面的多孔材料
- 测量位置：颗粒统计使用多个不重叠视场，多孔样分别扫描孔口、孔壁可达区和基体平面
- 数据判读：获得颗粒三维尺寸、数量密度、团聚形态及多孔表面的纳米起伏
送样前需要准备什么
送样信息包括材质、形态、批次、保存条件、目标参数及制样要求。
- 01
样品形式：均匀固定在平整基底上的颗粒、粉体涂布层和具有可达表面的多孔材料
- 02
制样与装夹：稀疏分散颗粒并固定基底，多孔样采用保留孔口原貌的平整截取方式
- 03
随样资料：记录粉末批次、分散介质、固定方式、粒级、探针半径和扫描面积
- 04
对照样品：按粒级、处理条件和批次比较颗粒高度、横向尺寸、团聚与表面粗糙度
- 05
位置记录：颗粒统计使用多个不重叠视场，多孔样分别扫描孔口、孔壁可达区和基体平面
样品形式：均匀固定在平整基底上的颗粒、粉体涂布层和具有可达表面的多孔材料 制样与装夹：稀疏分散颗粒并固定基底，多孔样采用保留孔口原貌的平整截取方式 随样资料：记录粉末批次、分散介质、固定方式、粒级、探针半径和扫描面积 对照样品：按粒级、处理条件和批次比较颗粒高度、横向尺寸、团聚与表面粗糙度 位置记录：颗粒统计使用多个不重叠视场，多孔样分别扫描孔口、孔壁可达区和基体平面
粉末、颗粒与多孔材料原子力显微镜 AFM技术报告及主要结论 交付多视场高度图、颗粒尺寸与数量统计、团聚分布和探针卷积说明 原始资料：颗粒统计数据；记录粉末批次、分散介质、固定方式、粒级、探针半径和扫描面积 位置资料：颗粒统计使用多个不重叠视场，多孔样分别扫描孔口、孔壁可达区和基体平面 对照资料：按粒级、处理条件和批次比较颗粒高度、横向尺寸、团聚与表面粗糙度
检测项目
颗粒统计
依据三维形貌分割颗粒，输出高度、横向尺寸、数量密度和团聚特征，采集区域：颗粒统计使用多个不重叠视场，多孔样分别扫描孔口、孔壁可达区和基体平面。
三维高度图
在指定扫描范围内记录表面高度矩阵，展示台阶、颗粒、孔洞、划痕和相界，对照组合：按粒级、处理条件和批次比较颗粒高度、横向尺寸、团聚与表面粗糙度。
粗糙度参数
经平面校正和线形处理后计算Sa、Sq、Sz或线粗糙度，并标明评定面积，样品资料：记录粉末批次、分散介质、固定方式、粒级、探针半径和扫描面积。
相位与材料差异
在轻敲模式下同步采集相位或振幅图，识别不同粘弹、附着或组分区域，数据判读：横向粒径结合探针半径修正，高度和轮廓统计选择未重叠且完整落入视场的颗粒。
探针卷积
横向尺寸受探针尖端半径影响，高度信息更接近真实值，颗粒宽度解释附带探针信息，并结合横向粒径结合探针半径修正，高度和轮廓统计选择未重叠且完整落入视场的颗粒。
检测方法和流程
检测标准和方法
以下是本页引用的标准与方法资料。具体项目是否适用、采用哪个版本及如何判定，需结合对象、条件和委托要求确认。
共 4 项
粉末、颗粒与多孔材料原子力显微镜 AFM的方法选择、样品处理、仪器条件、质量控制和结果表达应与采用标准的适用范围保持一致。
ISO 11952:2019《扫描探针显微镜几何量测量系统校准》可作为该分析方法的质量要求参考，项目按客户指定版本和实验室确认结果执行。
ISO 11952:2019—扫描探针显微镜几何量测量系统校准粉末、颗粒与多孔材料原子力显微镜 AFM的方法选择、样品处理、仪器条件、质量控制和结果表达应与采用标准的适用范围保持一致。
ISO 11039:2012《扫描探针显微镜漂移速率测量》可作为该分析方法的质量要求参考，项目按客户指定版本和实验室确认结果执行。
ISO 11039:2012—扫描探针显微镜漂移速率测量报告和检测数据
粉末、颗粒与多孔材料原子力显微镜 AFM结果单个视场对应具体测区，整批和整体结构增加代表性测点；三维结构采用三维方法评价，并记录制样、真空、束流和图像阈值
粉末、颗粒与多孔材料原子力显微镜 AFM结果观察结果与实际取样位置和视场对应；三维结构采用三维方法评价，图像统计同步记录阈值及束流、真空、切割和抛光条件。
粉末、颗粒与多孔材料原子力显微镜 AFM结果对应实际收到的样品、采用的原子力显微镜 AFM条件和数据处理方法；样品或参数改变后按新条件复核可比性
仪器测试交付测量数据和技术说明；整批质量判定、产品认证、法定鉴定和监管事项按照相应程序实施
常见问题
01粉末、颗粒与多孔材料的颗粒统计能量化哪些参数？
依据三维形貌分割颗粒，输出高度、横向尺寸、数量密度和团聚特征，获得颗粒三维尺寸、数量密度、团聚形态及多孔表面的纳米起伏。
02粉末、颗粒与多孔材料的颗粒统计哪些样品材料适合送检？
均匀固定在平整基底上的颗粒、粉体涂布层和具有可达表面的多孔材料，稀疏分散颗粒并固定基底，多孔样采用保留孔口原貌的平整截取方式。
03粉末、颗粒与多孔材料的颗粒统计装夹前怎样制备样品？
稀疏分散颗粒并固定基底，多孔样采用保留孔口原貌的平整截取方式，记录粉末批次、分散介质、固定方式、粒级、探针半径和扫描面积。
04粉末、颗粒与多孔材料的颗粒统计对照测量怎么安排？
按粒级、处理条件和批次比较颗粒高度、横向尺寸、团聚与表面粗糙度，探针、模式、扫描范围、速度和反馈参数保持一致。
05粉末、颗粒与多孔材料的颗粒统计测点如何编号？
颗粒统计使用多个不重叠视场，多孔样分别扫描孔口、孔壁可达区和基体平面，稀疏分散颗粒并固定基底，多孔样采用保留孔口原貌的平整截取方式。
06粉末、颗粒与多孔材料的颗粒统计质量检查包括什么？
横向粒径结合探针半径修正，高度和轮廓统计选择未重叠且完整落入视场的颗粒，探针、模式、扫描范围、速度和反馈参数保持一致。
07粉末、颗粒与多孔材料的颗粒统计报告结果怎样呈现？
交付多视场高度图、颗粒尺寸与数量统计、团聚分布和探针卷积说明，记录粉末批次、分散介质、固定方式、粒级、探针半径和扫描面积。
08粉末、颗粒与多孔材料的颗粒统计数据可用于哪些决策？
获得颗粒三维尺寸、数量密度、团聚形态及多孔表面的纳米起伏，按粒级、处理条件和批次比较颗粒高度、横向尺寸、团聚与表面粗糙度。