检测范围
REELS表面带隙测量采用低能离子散射选择性观察最外原子层，电子能损谱补充覆盖层、表面电子结构和带隙信息，用于从电子能损起始位置计算表面带隙，并比较薄膜处理引起的电子结构变化；结果包含代表图、统计值和处理记录，报告包含REELS带隙与表面污染定位的图表和参数。
REELS带隙
对照条件为REELS表面带隙测量沿表面清洗、退火、吸附处理和束流剂量，低能离子散射与电子能损 LEIS/ISS/REELS采用一次离子种类与能量、散射几何、电子束能量、剂量、能量标定和表面处理程序，REELS带隙支撑最外层组成、覆盖度、污染残留与表面带隙评价，从零损失峰与非弹性能损起始位置拟合表面电子带隙。
对象与条件
REELS带隙用于最外层组成、覆盖度、污染残留与表面带隙评价，结果从电子能损起始位置计算表面带隙，并比较薄膜处理引起的电子结构变化，样品分组依据为REELS表面带隙测量沿表面清洗、退火、吸附处理和束流剂量，REELS带隙：从零损失峰与非弹性能损起始位置拟合表面电子带隙。 表面污染定位：比较清洗前后或不同处理区域的散射峰，识别残留、再污染和偏析，原始资料包括离子散射谱、能损谱、峰参数和表面处理时间线，REELS带隙与表面污染定位在REELS表面带隙测量记录中对应同一组样品。 测量结果用于从电子能损起始位置计算表面带隙，并比较薄膜处理引起的电子结构变化，REELS带隙按测区编号归档，位置图列出工作面、测量方向以及表面清洗、退火、吸附处理和束流剂量，低能离子散射与电子能损 LEIS/ISS/REELS适用于超洁净金属、氧化物、催化剂、晶圆、薄膜、吸附层或经过表面处理的平整样品。 REELS带隙测区安排：在REELS表面带隙测量工作面选取主体区与差异区，坐标图保留测量方向和区域编号，REELS表面带隙测量的位置图标注REELS带隙测区、方向和编号，数据用于从电子能损起始位置计算表面带隙，并比较薄膜处理引起的电子结构变化，REELS表面带隙测量结果按表面清洗、退火、吸附处理和束流剂量分组，报告提供LEIS或ISS能谱、最外层元素组成、覆盖度变化、REELS能损谱、带隙拟合与处理前后对照。 REELS带隙与表面污染定位执行一次离子种类与能量、散射几何、电子束能量、剂量、能量标定和表面处理程序，结果采用最外层组成、覆盖度、污染残留与表面带隙评价进行分析，对照样按REELS表面带隙测量沿表面清洗、退火、吸附处理和束流剂量设置。
需要注意的限制
REELS表面带隙测量结果报告对应实际样品、测点、量程和测量条件；整批评价按照约定取样方案、对照设置和判定依据执行 REELS表面带隙测量结果报告列明各技术的信息深度和横向分辨率，并记录离子刻蚀、表面清洁、测试时间和模型拟合对结果的影响。 REELS表面带隙测量结果对应实际收到的样品、采用的低能离子散射与电子能损 LEIS/ISS/REELS条件和数据处理方法；样品或参数改变后按新条件复核可比性 仪器测试交付测量数据和技术说明；整批质量判定、产品认证、法定鉴定和监管事项按照相应程序实施
检测时需要注意什么
实施流程
1. REELS表面带隙测量登记基底与覆盖层组成、表面处理、清洗或退火、吸附物、反应气氛、预期带隙和目标元素，分组信息采用表面清洗、退火、吸附处理和束流剂量，任务档案保存离子散射谱、能损谱、峰参数和表面处理时间线，整理表面处理时间线并建立洁净转移与坐标记录；2. 完成散射能量、零损失峰和探测几何校准，制样状态对应表面清洗、退火、吸附处理和束流剂量，REELS表面带隙测量样品采用洁净或受控气氛转移，减少触碰和空气暴露，记录最外层处理、吸附与清洗时间线，REELS带隙保留制样状态；3. 采集位置按REELS表面带隙测量沿表面清洗、退火、吸附处理和束流剂量设置，在REELS表面带隙测量工作面选取主体区与差异区，坐标图保留测量方向和区域编号，采集数据用于从电子能损起始位置计算表面带隙，并比较薄膜处理引起的电子结构变化，以低剂量采集最外层离子散射或电子能损谱；4. 拟合元素峰、覆盖变化和能损起始位置，REELS带隙和表面污染定位按表面清洗、退火、吸附处理和束流剂量记录，对照组采用REELS表面带隙测量沿表面清洗、退火、吸附处理和束流剂量，复核记录关联离子散射谱、能损谱、峰参数和表面处理时间线；5. REELS带隙和表面污染定位结果按表面清洗、退火、吸附处理和束流剂量汇总，离子散射谱、能损谱、峰参数和表面处理时间线随任务号归档，REELS表面带隙测量报告提供LEIS或ISS能谱、最外层元素组成、覆盖度变化、REELS能损谱、带隙拟合与处理前后对照，输出原始谱、峰参数、带隙或覆盖度及处理条件
表面灵敏度
LEIS信号主要来自最外原子层，包装、转移和短时吸附均写入样品履历，数据按表面清洗、退火、吸附处理和束流剂量分组，REELS表面带隙测量执行表面灵敏度控制，REELS带隙沿表面清洗、退火、吸附处理和束流剂量比较。
束流影响
对照关系采用REELS表面带隙测量沿表面清洗、退火、吸附处理和束流剂量，REELS表面带隙测量沿表面清洗、退火、吸附处理和束流剂量形成表面污染定位对照，各组执行一次离子种类与能量、散射几何、电子束能量、剂量、能量标定和表面处理程序，低能离子和电子束仍会改变敏感吸附层，剂量、光斑和采集顺序完整记录。
带隙拟合
REELS零损失尾部、背景函数和线性拟合区间决定带隙结果，原始与处理谱共同展示，REELS表面带隙测量的带隙拟合记录包含基底与覆盖层组成、表面处理、清洗或退火、吸附物、反应气氛、预期带隙和目标元素与离子散射谱、能损谱、峰参数和表面处理时间线，原始资料保存为离子散射谱、能损谱、峰参数和表面处理时间线。
覆盖度标尺
REELS带隙和表面污染定位写入LEIS或ISS能谱、最外层元素组成、覆盖度变化、REELS能损谱、带隙拟合与处理前后对照，用途为最外层组成、覆盖度、污染残留与表面带隙评价，报告说明最外层组成、覆盖度、污染残留与表面带隙评价，峰强变化与覆盖度的关系结合洁净基底、饱和覆盖或系列样建立。
适用产品与样品
REELS表面带隙测量适用于以下产品、样品及技术问题。
适用产品和常见问题
- REELS带隙用于最外层组成、覆盖度、污染残留与表面带隙评价，结果从电子能损起始位置计算表面带隙，并比较薄膜处理引起的电子结构变化，样品分组依据为REELS表面带隙测量沿表面清洗、退火、吸附处理和束流剂量，REELS带隙：从零损失峰与非弹性能损起始位置拟合表面电子带隙。
- 表面污染定位：比较清洗前后或不同处理区域的散射峰，识别残留、再污染和偏析，原始资料包括离子散射谱、能损谱、峰参数和表面处理时间线，REELS带隙与表面污染定位在REELS表面带隙测量记录中对应同一组样品。
- 测量结果用于从电子能损起始位置计算表面带隙，并比较薄膜处理引起的电子结构变化，REELS带隙按测区编号归档，位置图列出工作面、测量方向以及表面清洗、退火、吸附处理和束流剂量，低能离子散射与电子能损 LEIS/ISS/REELS适用于超洁净金属、氧化物、催化剂、晶圆、薄膜、吸附层或经过表面处理的平整样品。
- REELS带隙测区安排：在REELS表面带隙测量工作面选取主体区与差异区，坐标图保留测量方向和区域编号，REELS表面带隙测量的位置图标注REELS带隙测区、方向和编号，数据用于从电子能损起始位置计算表面带隙，并比较薄膜处理引起的电子结构变化，REELS表面带隙测量结果按表面清洗、退火、吸附处理和束流剂量分组，报告提供LEIS或ISS能谱、最外层元素组成、覆盖度变化、REELS能损谱、带隙拟合与处理前后对照。
- REELS带隙与表面污染定位执行一次离子种类与能量、散射几何、电子束能量、剂量、能量标定和表面处理程序，结果采用最外层组成、覆盖度、污染残留与表面带隙评价进行分析，对照样按REELS表面带隙测量沿表面清洗、退火、吸附处理和束流剂量设置。
送样前需要准备什么
送样信息包括材质、形态、批次、保存条件、目标参数及制样要求。
- 01
低能离子散射与电子能损 LEIS/ISS/REELS接收超洁净金属、氧化物、催化剂、晶圆、薄膜、吸附层或经过表面处理的平整样品，样品记录包含基底与覆盖层组成、表面处理、清洗或退火、吸附物、反应气氛、预期带隙和目标元素，REELS表面带隙测量登记表面清洗、退火、吸附处理和束流剂量，REELS带隙作为主数据项。
- 02
REELS表面带隙测量制样状态与REELS表面带隙测量沿表面清洗、退火、吸附处理和束流剂量逐组对应，REELS带隙数据保存REELS表面带隙测量的装样方向和表面状态，测区位置按表面清洗、退火、吸附处理和束流剂量编号，REELS表面带隙测量采用洁净或受控气氛转移，减少触碰和空气暴露，记录最外层处理、吸附与清洗时间线。
- 03
REELS表面带隙测量随样资料包括基底与覆盖层组成、表面处理、清洗或退火、吸附物、反应气氛、预期带隙和目标元素，表面污染定位数据连同离子散射谱、能损谱、峰参数和表面处理时间线归档，结果文件包含LEIS或ISS能谱、最外层元素组成、覆盖度变化、REELS能损谱、带隙拟合与处理前后对照。
- 04
REELS带隙与表面污染定位按照一次离子种类与能量、散射几何、电子束能量、剂量、能量标定和表面处理程序测量，样品按表面清洗、退火、吸附处理和束流剂量编号，比较样包括REELS表面带隙测量沿表面清洗、退火、吸附处理和束流剂量。
- 05
在REELS表面带隙测量工作面选取主体区与差异区，坐标图保留测量方向和区域编号，表面污染定位保留独立原始数据，复核资料归入离子散射谱、能损谱、峰参数和表面处理时间线，REELS表面带隙测量结果服务于从电子能损起始位置计算表面带隙，并比较薄膜处理引起的电子结构变化。
低能离子散射与电子能损 LEIS/ISS/REELS接收超洁净金属、氧化物、催化剂、晶圆、薄膜、吸附层或经过表面处理的平整样品，样品记录包含基底与覆盖层组成、表面处理、清洗或退火、吸附物、反应气氛、预期带隙和目标元素，REELS表面带隙测量登记表面清洗、退火、吸附处理和束流剂量，REELS带隙作为主数据项。 REELS表面带隙测量制样状态与REELS表面带隙测量沿表面清洗、退火、吸附处理和束流剂量逐组对应，REELS带隙数据保存REELS表面带隙测量的装样方向和表面状态，测区位置按表面清洗、退火、吸附处理和束流剂量编号，REELS表面带隙测量采用洁净或受控气氛转移，减少触碰和空气暴露，记录最外层处理、吸附与清洗时间线。 REELS表面带隙测量随样资料包括基底与覆盖层组成、表面处理、清洗或退火、吸附物、反应气氛、预期带隙和目标元素，表面污染定位数据连同离子散射谱、能损谱、峰参数和表面处理时间线归档，结果文件包含LEIS或ISS能谱、最外层元素组成、覆盖度变化、REELS能损谱、带隙拟合与处理前后对照。 REELS带隙与表面污染定位按照一次离子种类与能量、散射几何、电子束能量、剂量、能量标定和表面处理程序测量，样品按表面清洗、退火、吸附处理和束流剂量编号，比较样包括REELS表面带隙测量沿表面清洗、退火、吸附处理和束流剂量。 在REELS表面带隙测量工作面选取主体区与差异区，坐标图保留测量方向和区域编号，表面污染定位保留独立原始数据，复核资料归入离子散射谱、能损谱、峰参数和表面处理时间线，REELS表面带隙测量结果服务于从电子能损起始位置计算表面带隙，并比较薄膜处理引起的电子结构变化。
结论说明最外层组成、覆盖度、污染残留与表面带隙评价所反映的状态变化，报告用于从电子能损起始位置计算表面带隙，并比较薄膜处理引起的电子结构变化，REELS表面带隙测量技术报告列出REELS带隙、表面污染定位和样品间差异。 REELS表面带隙测量数据附件包括LEIS或ISS能谱、最外层元素组成、覆盖度变化、REELS能损谱、带隙拟合与处理前后对照，文件按表面清洗、退火、吸附处理和束流剂量分组，离子散射谱、能损谱、峰参数和表面处理时间线归入REELS表面带隙测量任务档案。 对照关系采用REELS表面带隙测量沿表面清洗、退火、吸附处理和束流剂量，表面污染定位单列数据表，统计字段采用表面清洗、退火、吸附处理和束流剂量，REELS带隙保留原始响应和处理参数。 REELS表面带隙测量条件表记录表面清洗、退火、吸附处理和束流剂量，方法记录列明一次离子种类与能量、散射几何、电子束能量、剂量、能量标定和表面处理程序，复核资料包括离子散射谱、能损谱、峰参数和表面处理时间线。 离子散射谱、能损谱、峰参数和表面处理时间线对应REELS带隙和表面污染定位的原始记录，图表说明最外层组成、覆盖度、污染残留与表面带隙评价，对照图按REELS表面带隙测量沿表面清洗、退火、吸附处理和束流剂量编排。
检测项目
REELS带隙
对照条件为REELS表面带隙测量沿表面清洗、退火、吸附处理和束流剂量，低能离子散射与电子能损 LEIS/ISS/REELS采用一次离子种类与能量、散射几何、电子束能量、剂量、能量标定和表面处理程序，REELS带隙支撑最外层组成、覆盖度、污染残留与表面带隙评价，从零损失峰与非弹性能损起始位置拟合表面电子带隙。
表面污染定位
比较清洗前后或不同处理区域的散射峰，识别残留、再污染和偏析，表面污染定位沿表面清洗、退火、吸附处理和束流剂量比较样品差异，离子剂量序列写入离子散射谱、能损谱、峰参数和表面处理时间线，结果按表面清洗、退火、吸附处理和束流剂量分组。
离子剂量序列
REELS表面带隙测量保留REELS表面带隙测量的位置图、方向与区域编号，离子剂量序列用于从电子能损起始位置计算表面带隙，并比较薄膜处理引起的电子结构变化，样品记录包含基底与覆盖层组成、表面处理、清洗或退火、吸附物、反应气氛、预期带隙和目标元素，按递增剂量采集短谱，观察最外层信号稳定与束流诱导变化。
处理过程比较
在退火、吸附、反应气氛或等离子处理前后使用统一几何测量，前处理采用洁净或受控气氛转移，减少触碰和空气暴露，记录最外层处理、吸附与清洗时间线，处理过程比较给出最外层组成、覆盖度、污染残留与表面带隙评价，最外原子层组成由LEIS或ISS能谱、最外层元素组成、覆盖度变化、REELS能损谱、带隙拟合与处理前后对照呈现。
最外原子层组成
交付文件包括LEIS或ISS能谱、最外层元素组成、覆盖度变化、REELS能损谱、带隙拟合与处理前后对照，离子散射谱、能损谱、峰参数和表面处理时间线支持结果复核，最外原子层组成反映REELS表面带隙测量的测量状态，由低能离子散射峰识别最外层元素，并比较峰面积与表面覆盖变化。
表面覆盖度
利用基底峰衰减和吸附层峰增长评价单层覆盖、清洗或沉积过程，表面覆盖度与REELS带隙共同解释REELS表面带隙测量，低能离子散射与电子能损 LEIS/ISS/REELS记录表面清洗、退火、吸附处理和束流剂量，原始资料归入离子散射谱、能损谱、峰参数和表面处理时间线。
检测方法和流程
检测标准和方法
以下是本页引用的标准与方法资料。具体项目是否适用、采用哪个版本及如何判定，需结合对象、条件和委托要求确认。
共 4 项
报告和检测数据
REELS表面带隙测量结果报告对应实际样品、测点、量程和测量条件；整批评价按照约定取样方案、对照设置和判定依据执行
REELS表面带隙测量结果报告列明各技术的信息深度和横向分辨率，并记录离子刻蚀、表面清洁、测试时间和模型拟合对结果的影响。
REELS表面带隙测量结果对应实际收到的样品、采用的低能离子散射与电子能损 LEIS/ISS/REELS条件和数据处理方法；样品或参数改变后按新条件复核可比性
仪器测试交付测量数据和技术说明；整批质量判定、产品认证、法定鉴定和监管事项按照相应程序实施
常见问题
01REELS表面带隙测量可获得哪些数据信息？
REELS表面带隙测量报告提供LEIS或ISS能谱、最外层元素组成、覆盖度变化、REELS能损谱、带隙拟合与处理前后对照，报告用于从电子能损起始位置计算表面带隙，并比较薄膜处理引起的电子结构变化，REELS带隙呈现核心量值，表面污染定位展示样品差异。
02REELS表面带隙测量可以接收哪些样品？
随样资料包括基底与覆盖层组成、表面处理、清洗或退火、吸附物、反应气氛、预期带隙和目标元素，REELS表面带隙测量按表面清洗、退火、吸附处理和束流剂量登记批次与状态，低能离子散射与电子能损 LEIS/ISS/REELS适用于超洁净金属、氧化物、催化剂、晶圆、薄膜、吸附层或经过表面处理的平整样品。
03REELS表面带隙测量送样前做哪些处理？
低能离子散射与电子能损 LEIS/ISS/REELS制样采用洁净或受控气氛转移，减少触碰和空气暴露，记录最外层处理、吸附与清洗时间线，基底与覆盖层组成、表面处理、清洗或退火、吸附物、反应气氛、预期带隙和目标元素以及低能离子散射与电子能损 LEIS/ISS/REELS的工作面、测区编号和测量方向随REELS表面带隙测量结果文件归档，在REELS表面带隙测量工作面选取主体区与差异区，坐标图保留测量方向和区域编号。
04REELS表面带隙测量参照样怎样选择？
REELS带隙和表面污染定位执行一次离子种类与能量、散射几何、电子束能量、剂量、能量标定和表面处理程序，对照数据用于最外层组成、覆盖度、污染残留与表面带隙评价，参照样和目标样按REELS表面带隙测量沿表面清洗、退火、吸附处理和束流剂量编组。
05REELS表面带隙测量取样位置如何安排？
在REELS表面带隙测量工作面选取主体区与差异区，坐标图保留测量方向和区域编号，原始资料归入离子散射谱、能损谱、峰参数和表面处理时间线，表面污染定位按样品编号和表面清洗、退火、吸附处理和束流剂量进入计算表。
06REELS表面带隙测量质量控制有哪些步骤？
结果文件包含LEIS或ISS能谱、最外层元素组成、覆盖度变化、REELS能损谱、带隙拟合与处理前后对照，质量记录列明一次离子种类与能量、散射几何、电子束能量、剂量、能量标定和表面处理程序，低能离子散射与电子能损 LEIS/ISS/REELS检查REELS带隙的独立重复和表面污染定位原始响应。
07REELS表面带隙测量报告中有哪些图？
REELS表面带隙测量交付LEIS或ISS能谱、最外层元素组成、覆盖度变化、REELS能损谱、带隙拟合与处理前后对照，REELS带隙原始数据、表面污染定位处理参数和离子散射谱、能损谱、峰参数和表面处理时间线按编号关联，交付内容服务于从电子能损起始位置计算表面带隙，并比较薄膜处理引起的电子结构变化。
08REELS表面带隙测量如何支持质量评价？
REELS表面带隙测量沿表面清洗、退火、吸附处理和束流剂量比较批次或状态，样品差异按REELS表面带隙测量沿表面清洗、退火、吸附处理和束流剂量解释，REELS表面带隙测量结果用于最外层组成、覆盖度、污染残留与表面带隙评价。