检测范围
非接触测量台阶高度、膜厚和沟槽深度，形成位置间的厚度对照，其中跨越刻蚀边缘、掩膜窗口或涂层缺口提取多条截面，统计台阶高度。透明膜与基底反射可能出现多界面信号，基准面选择和无效点在截面图上标出。
台阶与膜厚
跨越刻蚀边缘、掩膜窗口或涂层缺口提取多条截面，统计台阶高度，采集区域：每条轮廓同时包含足够长度的上、下基准面，避开颗粒和边缘破损。
对象与条件
台阶与膜厚：跨越刻蚀边缘、掩膜窗口或涂层缺口提取多条截面，统计台阶高度，结果用于非接触测量台阶高度、膜厚和沟槽深度，形成位置间的厚度对照 面形貌参数：以白光干涉获取三维高度矩阵，并计算Sa、Sq、Sz、偏度、峰度及材料比曲线参数，测量位置按以下方式布置：每条轮廓同时包含足够长度的上、下基准面，避开颗粒和边缘破损 检测对象：带刻蚀边缘、掩膜开口、涂层缺口、沟槽或微台阶的平整试样 测量位置：每条轮廓同时包含足够长度的上、下基准面，避开颗粒和边缘破损 数据判读：非接触测量台阶高度、膜厚和沟槽深度，形成位置间的厚度对照
需要注意的限制
台阶高度、膜厚与沟槽深度结果单个视场对应具体测区，整批和整体结构增加代表性测点；三维结构采用三维方法评价，并记录制样、真空、束流和图像阈值 台阶高度、膜厚与沟槽深度结果观察结果与实际取样位置和视场对应；三维结构采用三维方法评价，图像统计同步记录阈值及束流、真空、切割和抛光条件。 台阶高度、膜厚与沟槽深度结果对应实际收到的样品、采用的白光干涉与三维光学轮廓条件和数据处理方法；样品或参数改变后按新条件复核可比性 仪器测试交付测量数据和技术说明；整批质量判定、产品认证、法定鉴定和监管事项按照相应程序实施
检测时需要注意什么
实施流程
1. 确认台阶方向和上下基准面，规划跨越边缘的扫描框；2. 选择物镜和垂直扫描范围，完成高度标定；3. 采集含完整台阶两侧的三维表面数据；4. 建立上下基准面并提取多条垂直截面，统计高度差；5. 输出台阶图、截面曲线、各位置结果和基准设置
光学响应
镜面、透明、多孔或陡坡区域采用对应扫描模式，缺失点比例和填补方式写入记录，样品资料：提供基底、层序、标称厚度、刻蚀或沉积工艺、测量位置和目标高度范围。
基准建立
台阶、磨损和翘曲使用不同基准面策略，选区与拟合阶数在结果图中显示，测量位置：每条轮廓同时包含足够长度的上、下基准面，避开颗粒和边缘破损。
滤波选择
截止波长随评定长度和纹理尺度设定，跨样比较维持一致的滤波与取样条件，对照数据：在多个台阶位置提取截面，比较沉积、刻蚀或不同工艺样的高度和离散性。
不确定度来源
垂直标定、环境振动、拼接、边缘插值和表面反射共同影响高度结果，质量控制样贯穿批次，结果解释：透明膜与基底反射可能出现多界面信号，基准面选择和无效点在截面图上标出。
适用产品与样品
台阶高度、膜厚与沟槽深度适用于以下产品、样品及技术问题。
适用产品和常见问题
- 台阶与膜厚：跨越刻蚀边缘、掩膜窗口或涂层缺口提取多条截面，统计台阶高度，结果用于非接触测量台阶高度、膜厚和沟槽深度，形成位置间的厚度对照
- 面形貌参数：以白光干涉获取三维高度矩阵，并计算Sa、Sq、Sz、偏度、峰度及材料比曲线参数，测量位置按以下方式布置：每条轮廓同时包含足够长度的上、下基准面，避开颗粒和边缘破损
- 检测对象：带刻蚀边缘、掩膜开口、涂层缺口、沟槽或微台阶的平整试样
- 测量位置：每条轮廓同时包含足够长度的上、下基准面，避开颗粒和边缘破损
- 数据判读：非接触测量台阶高度、膜厚和沟槽深度，形成位置间的厚度对照
送样前需要准备什么
送样信息包括材质、形态、批次、保存条件、目标参数及制样要求。
- 01
样品形式：带刻蚀边缘、掩膜开口、涂层缺口、沟槽或微台阶的平整试样
- 02
制样与装夹：清洁台阶两侧并保证基准面完整，扫描方向垂直跨越高度变化
- 03
随样资料：提供基底、层序、标称厚度、刻蚀或沉积工艺、测量位置和目标高度范围
- 04
对照样品：在多个台阶位置提取截面，比较沉积、刻蚀或不同工艺样的高度和离散性
- 05
位置记录：每条轮廓同时包含足够长度的上、下基准面，避开颗粒和边缘破损
样品形式：带刻蚀边缘、掩膜开口、涂层缺口、沟槽或微台阶的平整试样 制样与装夹：清洁台阶两侧并保证基准面完整，扫描方向垂直跨越高度变化 随样资料：提供基底、层序、标称厚度、刻蚀或沉积工艺、测量位置和目标高度范围 对照样品：在多个台阶位置提取截面，比较沉积、刻蚀或不同工艺样的高度和离散性 位置记录：每条轮廓同时包含足够长度的上、下基准面，避开颗粒和边缘破损
台阶高度、膜厚与沟槽深度技术报告及主要结论 三维台阶图、轮廓曲线、膜厚或沟槽深度统计及测点位置 原始资料：台阶与膜厚数据；提供基底、层序、标称厚度、刻蚀或沉积工艺、测量位置和目标高度范围 位置资料：每条轮廓同时包含足够长度的上、下基准面，避开颗粒和边缘破损 对照资料：在多个台阶位置提取截面，比较沉积、刻蚀或不同工艺样的高度和离散性
检测项目
台阶与膜厚
跨越刻蚀边缘、掩膜窗口或涂层缺口提取多条截面，统计台阶高度，采集区域：每条轮廓同时包含足够长度的上、下基准面，避开颗粒和边缘破损。
面形貌参数
以白光干涉获取三维高度矩阵，并计算Sa、Sq、Sz、偏度、峰度及材料比曲线参数，对照组合：在多个台阶位置提取截面，比较沉积、刻蚀或不同工艺样的高度和离散性。
沟槽与纹理
测量沟槽深度、节距、宽度和表面纹理方向，形成截面与面参数对应，样品资料：提供基底、层序、标称厚度、刻蚀或沉积工艺、测量位置和目标高度范围。
波纹与粗糙分离
采用规定截止波长分离形状、波纹和粗糙度分量，保留滤波前后数据，数据判读：透明膜与基底反射可能出现多界面信号，基准面选择和无效点在截面图上标出。
平面度与翘曲
对大面积拼接高度场去除刚体倾斜后计算峰谷值、平面度和翘曲方向，应用方向：非接触测量台阶高度、膜厚和沟槽深度，形成位置间的厚度对照。
检测方法和流程
检测标准和方法
以下是本页引用的标准与方法资料。具体项目是否适用、采用哪个版本及如何判定，需结合对象、条件和委托要求确认。
共 3 项
报告和检测数据
台阶高度、膜厚与沟槽深度结果单个视场对应具体测区，整批和整体结构增加代表性测点；三维结构采用三维方法评价，并记录制样、真空、束流和图像阈值
台阶高度、膜厚与沟槽深度结果观察结果与实际取样位置和视场对应；三维结构采用三维方法评价，图像统计同步记录阈值及束流、真空、切割和抛光条件。
台阶高度、膜厚与沟槽深度结果对应实际收到的样品、采用的白光干涉与三维光学轮廓条件和数据处理方法；样品或参数改变后按新条件复核可比性
仪器测试交付测量数据和技术说明；整批质量判定、产品认证、法定鉴定和监管事项按照相应程序实施
常见问题
01台阶高度、膜厚与沟槽深度的台阶与膜厚测量内容包括什么？
跨越刻蚀边缘、掩膜窗口或涂层缺口提取多条截面，统计台阶高度，非接触测量台阶高度、膜厚和沟槽深度，形成位置间的厚度对照。
02台阶高度、膜厚与沟槽深度的台阶与膜厚适用样品有哪些？
带刻蚀边缘、掩膜开口、涂层缺口、沟槽或微台阶的平整试样，清洁台阶两侧并保证基准面完整，扫描方向垂直跨越高度变化。
03台阶高度、膜厚与沟槽深度的台阶与膜厚需要提供哪些资料？
清洁台阶两侧并保证基准面完整，扫描方向垂直跨越高度变化，提供基底、层序、标称厚度、刻蚀或沉积工艺、测量位置和目标高度范围。
04台阶高度、膜厚与沟槽深度的台阶与膜厚状态样如何比较？
在多个台阶位置提取截面，比较沉积、刻蚀或不同工艺样的高度和离散性，物镜、垂直标定、基准面、滤波和取样长度保持一致。
05台阶高度、膜厚与沟槽深度的台阶与膜厚重复测点怎样安排？
每条轮廓同时包含足够长度的上、下基准面，避开颗粒和边缘破损，清洁台阶两侧并保证基准面完整，扫描方向垂直跨越高度变化。
06台阶高度、膜厚与沟槽深度的台阶与膜厚参数如何留档？
透明膜与基底反射可能出现多界面信号，基准面选择和无效点在截面图上标出，物镜、垂直标定、基准面、滤波和取样长度保持一致。
07台阶高度、膜厚与沟槽深度的台阶与膜厚报告包含哪些结果？
三维台阶图、轮廓曲线、膜厚或沟槽深度统计及测点位置，提供基底、层序、标称厚度、刻蚀或沉积工艺、测量位置和目标高度范围。
08台阶高度、膜厚与沟槽深度的台阶与膜厚怎样用于质量评价？
非接触测量台阶高度、膜厚和沟槽深度，形成位置间的厚度对照，在多个台阶位置提取截面，比较沉积、刻蚀或不同工艺样的高度和离散性。