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仪器分析

偏光、荧光与体视显微

Polarised, Fluorescence & Stereo Microscopy

增强透明相、双折射结构、开口缺陷和宏观起伏的光学对比,其中使用偏光、荧光或暗场增强透明材料、矿物、树脂浸渍区及表面划痕的对比。曝光、白平衡和偏振方位随原图保存,颜色差异结合组织形貌和材料数据解释。

检测内容
特殊照明 · 组织形貌
适用对象
特殊照明:使用偏光、荧光或暗场增强透明材料、矿物、树脂浸渍区及表面划痕的对比,结果用于增强透明相、双折射结构、开口缺陷和宏观起伏的光学对比 · 组织形貌:在低倍至高倍视场记录相组成、晶粒形态、带状组织、孔洞和加工流线,测量位置按以下方式布置:围绕矿物相界、树脂充填孔隙、荧光指示区和断口源区建立对应视场
方法标准
JY/T 0585-2020 · ASTM E883-11(2024)
报告交付
偏光、荧光与体视显微技术报告及主要结论 · 交付偏光、荧光或体视原图、同区照明对照、尺寸标注和观察位置图
项目受理登记对象、检测目标和报告用途
样品登记登记数量、状态和制样要求
过程质控记录检测条件并审核原始数据
报告交付交付结果、附件和技术说明
01

检测范围

检测范围检测内容与适用对象

偏光、荧光与体视显微主要检测特殊照明、组织形貌,服务对象包括特殊照明:使用偏光、荧光或暗场增强透明材料、矿物、树脂浸渍区及表面划痕的对比,结果用于增强透明相等、组织形貌:在低倍至高倍视场记录相组成、晶粒形态、带状组织、孔洞和加工流线,测量位置按以下方式布置:围绕矿物相界等,覆盖来样登记、检测实施和报告交付。

01核心检测项目

特殊照明

使用偏光、荧光或暗场增强透明材料、矿物、树脂浸渍区及表面划痕的对比,采集区域:围绕矿物相界、树脂充填孔隙、荧光指示区和断口源区建立对应视场。

02适用产品与样品

特殊照明:使用偏光、荧光或暗场增强透明材料、矿物、树脂浸渍区及表面划痕的对比,结果用于增强透明相、双折射结构、开口缺陷和宏观起伏的光学对比

组织形貌:在低倍至高倍视场记录相组成、晶粒形态、带状组织、孔洞和加工流线,测量位置按以下方式布置:围绕矿物相界、树脂充填孔隙、荧光指示区和断口源区建立对应视场

03委托资料与样品

样品、目标参数和报告用途

样品形式:矿物薄片、树脂浸渍多孔截面、荧光渗透件、复合材料切片和宏观断口

04报告与交付内容

偏光、荧光与体视显微检测报告 + 检测数据与图表

偏光、荧光与体视显微技术报告及主要结论

技术说明

项目技术要点

实施流程

1. 按样品类型选择透射、正交偏光、荧光或体视观察路线;2. 完成薄片、浸渍截面或表面清洁并建立视场坐标;3. 在多种照明下采集同一区域的全貌与细节图像;4. 校准标尺并测量相区、孔隙、裂纹或断口特征尺寸;5. 组合各照明图层形成结构对照与缺陷位置记录

取样方向

纵向、横向和表面截面呈现的组织不同,报告将方向与加工基准一并标出,样品资料:记录照明方式、偏振片方位、荧光激发条件、薄片厚度、浸渍工艺和倍率。

磨抛质量

拖尾、嵌料、划痕和边缘倒圆会改变组织外观,制样过程中逐级控制磨料和压力,测量位置:围绕矿物相界、树脂充填孔隙、荧光指示区和断口源区建立对应视场。

腐蚀条件

腐蚀剂、浓度、时间和温度决定组织显现程度,尺寸统计选择组织显现清楚的正常腐蚀区域,对照数据:在明场、正交偏光、荧光和体视照明下对照同一区域的结构与缺陷显示。

视场统计

正常区与异常区分开拍摄,计数视场按统一倍率和抽样规则覆盖样品,结果解释:曝光、白平衡和偏振方位随原图保存,颜色差异结合组织形貌和材料数据解释。

02

适用产品与样品

偏光、荧光与体视显微适用于以下产品、样品及技术问题。

适用产品与技术问题

  • 特殊照明:使用偏光、荧光或暗场增强透明材料、矿物、树脂浸渍区及表面划痕的对比,结果用于增强透明相、双折射结构、开口缺陷和宏观起伏的光学对比
  • 组织形貌:在低倍至高倍视场记录相组成、晶粒形态、带状组织、孔洞和加工流线,测量位置按以下方式布置:围绕矿物相界、树脂充填孔隙、荧光指示区和断口源区建立对应视场
  • 检测对象:矿物薄片、树脂浸渍多孔截面、荧光渗透件、复合材料切片和宏观断口
  • 测量位置:围绕矿物相界、树脂充填孔隙、荧光指示区和断口源区建立对应视场
  • 数据判读:增强透明相、双折射结构、开口缺陷和宏观起伏的光学对比
03

样品与委托资料

送样信息包括材质、形态、批次、保存条件、目标参数及制样要求。

  1. 01

    样品形式:矿物薄片、树脂浸渍多孔截面、荧光渗透件、复合材料切片和宏观断口

  2. 02

    制样与装夹:透明样制成均匀薄片,荧光样清除表面残液,体视样保持原始外观和方向

  3. 03

    随样资料:记录照明方式、偏振片方位、荧光激发条件、薄片厚度、浸渍工艺和倍率

  4. 04

    对照样品:在明场、正交偏光、荧光和体视照明下对照同一区域的结构与缺陷显示

  5. 05

    位置记录:围绕矿物相界、树脂充填孔隙、荧光指示区和断口源区建立对应视场

所需样品量样品量与制样要求

样品形式:矿物薄片、树脂浸渍多孔截面、荧光渗透件、复合材料切片和宏观断口。样品量包含制样损耗、平行样和留样需求。

检测周期项目周期与交付日期

偏光、荧光与体视显微列明样品、项目、方法、开始时间与报告交付日期,并同步安排复杂前处理和多模块测试。

报告类型偏光、荧光与体视显微检测报告 · 检测数据与图表 · 测试条件与质控记录

主要提供偏光、荧光与体视显微技术报告及主要结论、偏光、荧光或体视原图、同区照明对照、尺寸标注和观察位置图,其他数据和附件在委托单中列明。

实施方式实验室来样检测

收样、制样、测试、数据复核和报告输出由项目负责人统一衔接。

04

检测项目

01

特殊照明

使用偏光、荧光或暗场增强透明材料、矿物、树脂浸渍区及表面划痕的对比,采集区域:围绕矿物相界、树脂充填孔隙、荧光指示区和断口源区建立对应视场。

02

组织形貌

在低倍至高倍视场记录相组成、晶粒形态、带状组织、孔洞和加工流线,对照组合:在明场、正交偏光、荧光和体视照明下对照同一区域的结构与缺陷显示。

03

缺陷记录

对裂纹、折叠、疏松、气孔、脱层和腐蚀坑进行位置、长度和面积测量,样品资料:记录照明方式、偏振片方位、荧光激发条件、薄片厚度、浸渍工艺和倍率。

04

夹杂与第二相

按类型、尺寸、数量和分布统计非金属夹杂物、析出相或异物颗粒,数据判读:曝光、白平衡和偏振方位随原图保存,颜色差异结合组织形貌和材料数据解释。

05

取样方向

纵向、横向和表面截面呈现的组织不同,报告将方向与加工基准一并标出,并结合曝光、白平衡和偏振方位随原图保存,颜色差异结合组织形貌和材料数据解释。

05

检测方法与实施流程

现有设备和检测能力偏光、荧光与体视显微所需的检测、制样、质量控制和数据分析条件齐备,受理特殊照明、组织形貌。
01

检测需求

围绕偏光、荧光与体视显微列明样品、目标参数、方法标准和报告用途。

02

样品登记

样品形式:矿物薄片、树脂浸渍多孔截面、荧光渗透件、复合材料切片和宏观断口

03

完成前处理或制样

根据偏光、荧光与体视显微和特殊照明、组织形貌的测试条件处理样品。

04

完成仪器测试

使用偏光、荧光与体视显微按规定参数完成特殊照明、组织形貌和过程质量控制。

05

复核检测数据

重点检查特殊照明、组织形貌对应的图谱、曲线、图像或数据表。

06

交付报告和附件

提供偏光、荧光与体视显微技术报告及主要结论、偏光、荧光或体视原图、同区照明对照、尺寸标注和观察位置图及约定附件。

06

标准与方法依据

以下列出偏光、荧光与体视显微采用的正式标准与执行依据,包含标准编号、适用项目和发布来源。

2 项标准共列出 2 项标准与方法。

共 2 项

JY/T 0585-2020中国标准金相显微镜分析方法通则JY/T 0585-2020用于偏光、荧光与体视显微的金相显微镜分析方法通则项目实施与数据记录。中华人民共和国教育部 · 现行/Published · 查看发布机构来源
ASTM E883-11(2024)国外标准Standard Guide for Reflected-Light PhotomicrographyASTM E883-11(2024)用于偏光、荧光与体视显微的反射光显微摄影、宏观摄影和电子图像记录。ASTM International · 现行/Published · 查看发布机构来源
资料来源标准发布与方法来源
发布或实施日期 2026-08-10

偏光、荧光与体视显微的方法选择、样品处理、仪器条件、质量控制和结果表达应与采用标准的适用范围保持一致。

GB/T 13298-2015《金属显微组织检验方法》可作为该分析方法的质量要求参考,项目按客户指定版本和实验室确认结果执行。

GB/T 13298-2015—金属显微组织检验方法
发布或实施日期 2026-08-10

偏光、荧光与体视显微的方法选择、样品处理、仪器条件、质量控制和结果表达应与采用标准的适用范围保持一致。

GB/T 6394-2017《金属平均晶粒度测定方法》可作为该分析方法的质量要求参考,项目按客户指定版本和实验室确认结果执行。

GB/T 6394-2017—金属平均晶粒度测定方法
07

报告与交付内容

偏光、荧光与体视显微检测报告检测数据与图表测试条件与质控记录约定附件
偏光、荧光与体视显微技术报告及主要结论
交付偏光、荧光或体视原图、同区照明对照、尺寸标注和观察位置图
原始资料:特殊照明数据;记录照明方式、偏振片方位、荧光激发条件、薄片厚度、浸渍工艺和倍率
位置资料:围绕矿物相界、树脂充填孔隙、荧光指示区和断口源区建立对应视场
对照资料:在明场、正交偏光、荧光和体视照明下对照同一区域的结构与缺陷显示
常见报告用途
增强透明相、双折射结构、开口缺陷和宏观起伏的光学对比偏光、荧光与体视显微数据积累:记录照明方式、偏振片方位、荧光激发条件、薄片厚度、浸渍工艺和倍率复测与取样导航:围绕矿物相界、树脂充填孔隙、荧光指示区和断口源区建立对应视场工艺与状态比较:在明场、正交偏光、荧光和体视照明下对照同一区域的结构与缺陷显示
报告与结果说明

报告列明实际样品、检测方法、测试条件、结果和约定附件。

报告同步提供质量控制、数据复核和判定依据等项目记录。

样品、批次、工况或标准发生变化时,按新条件开展补充检测。

报告支持CMA/CNAS标识、合格判定及英文版本,相关要求可在需求表中注明。
08

常见问题

01偏光、荧光与体视显微的特殊照明能获得哪些结果?

使用偏光、荧光或暗场增强透明材料、矿物、树脂浸渍区及表面划痕的对比,增强透明相、双折射结构、开口缺陷和宏观起伏的光学对比。

02偏光、荧光与体视显微的特殊照明可接收哪些样品?

矿物薄片、树脂浸渍多孔截面、荧光渗透件、复合材料切片和宏观断口,透明样制成均匀薄片,荧光样清除表面残液,体视样保持原始外观和方向。

03偏光、荧光与体视显微的特殊照明送样前需要记录什么?

透明样制成均匀薄片,荧光样清除表面残液,体视样保持原始外观和方向,记录照明方式、偏振片方位、荧光激发条件、薄片厚度、浸渍工艺和倍率。

04偏光、荧光与体视显微的特殊照明参照条件如何保持?

在明场、正交偏光、荧光和体视照明下对照同一区域的结构与缺陷显示,倍率、照明、腐蚀制度和图像测量规则保持一致。

05偏光、荧光与体视显微的特殊照明重复测量选哪些位置?

围绕矿物相界、树脂充填孔隙、荧光指示区和断口源区建立对应视场,透明样制成均匀薄片,荧光样清除表面残液,体视样保持原始外观和方向。

06偏光、荧光与体视显微的特殊照明数据质量如何检查?

曝光、白平衡和偏振方位随原图保存,颜色差异结合组织形貌和材料数据解释,倍率、照明、腐蚀制度和图像测量规则保持一致。

07偏光、荧光与体视显微的特殊照明结果文件有哪些?

交付偏光、荧光或体视原图、同区照明对照、尺寸标注和观察位置图,记录照明方式、偏振片方位、荧光激发条件、薄片厚度、浸渍工艺和倍率。

08偏光、荧光与体视显微的特殊照明结果可用于哪些应用?

增强透明相、双折射结构、开口缺陷和宏观起伏的光学对比,在明场、正交偏光、荧光和体视照明下对照同一区域的结构与缺陷显示。

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