检测范围
分析材料表面数纳米范围内的元素组成和化学态，可进行高分辨谱、深度剖析及处理前后对比。
全谱扫描
识别表面可检出的主要元素
对象与条件
金属氧化层、涂层、薄膜、催化剂和电极表面化学 污染、清洗、等离子处理及表面改性效果 元素化学态、价态、键合环境和深度分布
需要注意的限制
XPS 只代表极表面，空气暴露污染、荷电校正、峰拟合和溅射损伤会影响结论。 X射线光电子能谱 XPS的检出限、定量范围和不确定度根据样品基体、全谱扫描与高分辨谱的方法要求，以及“样品适合高真空并控制挥发、含水和污染”对应的制样、校准和仪器条件确定。 X射线光电子能谱 XPS采用的标准目录列明标准版本、适用对象、全谱扫描的方法条件及XPS 全谱、高分辨谱、元素原子分数、峰拟合和必要的深度剖面的报告内容。
适用产品与样品
X射线光电子能谱 XPS适用于以下产品、样品及技术问题。
适用产品和常见问题
- 金属氧化层、涂层、薄膜、催化剂和电极表面化学
- 污染、清洗、等离子处理及表面改性效果
- 元素化学态、价态、键合环境和深度分布
送样前需要准备什么
送样信息包括材质、形态、批次、保存条件、目标参数及制样要求。
- 01
样品适合高真空并控制挥发、含水和污染
- 02
标明分析表面、保存方式和溅射刻蚀要求
- 03
粉末、薄膜和小件采用适配固定方式与有效分析面积
样品适合高真空并控制挥发、含水和污染 标明分析表面、保存方式和溅射刻蚀要求 粉末、薄膜和小件采用适配固定方式与有效分析面积
X射线光电子能谱 XPS检测的样品信息、制样或前处理方式及关键测试条件 XPS 全谱、高分辨谱、元素原子分数、峰拟合和必要的深度剖面 全谱扫描与高分辨谱对应的数据表、图谱、曲线、图像或可导出的原始数据 X射线光电子能谱 XPS检测的主要结果、异常信号及可比性条件说明 X射线光电子能谱 XPS采用的方法名称、标准编号和关键检测条件
检测项目
全谱扫描
识别表面可检出的主要元素
高分辨谱
对目标元素进行化学态拟合和对比
离子刻蚀深度剖析
观察元素或化学态随刻蚀深度变化
角分辨或处理前后对比
研究表面层次和工艺影响
检测方法和流程
检测标准和方法
以下是本页引用的标准与方法资料。具体项目是否适用、采用哪个版本及如何判定，需结合对象、条件和委托要求确认。
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报告和检测数据
XPS 只代表极表面，空气暴露污染、荷电校正、峰拟合和溅射损伤会影响结论。
X射线光电子能谱 XPS的检出限、定量范围和不确定度根据样品基体、全谱扫描与高分辨谱的方法要求，以及“样品适合高真空并控制挥发、含水和污染”对应的制样、校准和仪器条件确定。
X射线光电子能谱 XPS采用的标准目录列明标准版本、适用对象、全谱扫描的方法条件及XPS 全谱、高分辨谱、元素原子分数、峰拟合和必要的深度剖面的报告内容。
常见问题
01XPS 表面成分与整体成分怎样区分？
XPS 测定表面数纳米范围的元素与化学态；整体成分采用 XRF、ICP-OES 或 ICP-MS 测定。
02X射线光电子能谱 XPS需要多少样品？
样品量按照样品形态、均匀性、制样损耗和测试模块配置。送样要求包括：样品适合高真空并控制挥发、含水和污染；标明分析表面、保存方式和溅射刻蚀要求；粉末、薄膜和小件采用适配固定方式与有效分析面积。
03X射线光电子能谱 XPS怎样评价整批样品？
X射线光电子能谱 XPS围绕全谱扫描与高分辨谱设置代表性取样、平行样、多位置或多批次测试；样品准备满足“样品适合高真空并控制挥发、含水和污染”，报告对应记录取样位置与批次信息。
04X射线光电子能谱 XPS报告提供哪些结果？
X射线光电子能谱 XPS报告列明XPS 全谱、高分辨谱、元素原子分数、峰拟合和必要的深度剖面，并为全谱扫描与高分辨谱记录执行标准、仪器条件、质量控制、图谱或曲线及实测数据。