本页说明
ISO/TR 15969:2021《溅射深度剖析的溅射深度测量》由国际标准化组织发布，本站将其用于金属表面与防护涂层深度剖析与界面分布、半导体、薄膜与电子材料深度剖析与界面分布、电池、电极与催化材料深度剖析与界面分布、高分子、胶黏剂与复合界面深度剖析与界面分布等8项仪器测试的方法实施、数据记录和结果表达。
适用对象与条件
- ISO/TR 15969:2021用于金属表面与防护涂层深度剖析与界面分布的溅射深度标定、成分随深度变化和界面位置分析。
- ISO/TR 15969:2021用于半导体、薄膜与电子材料深度剖析与界面分布的溅射深度标定、成分随深度变化和界面位置分析。
- ISO/TR 15969:2021用于电池、电极与催化材料深度剖析与界面分布的溅射深度标定、成分随深度变化和界面位置分析。
- ISO/TR 15969:2021用于高分子、胶黏剂与复合界面深度剖析与界面分布的溅射深度标定、成分随深度变化和界面位置分析。
- ISO/TR 15969:2021用于镀层与涂层深度剖析的辉光放电光谱采集、定量深度剖析和层厚成分计算。
- ISO/TR 15969:2021用于扩散层、渗层与氧化层分析的辉光放电光谱采集、定量深度剖析和层厚成分计算。
- 金属表面与防护涂层深度剖析与界面分布的标准方法实施
- 半导体、薄膜与电子材料深度剖析与界面分布的标准方法实施
主要要求与方法
ISO/TR 15969
ISO/TR 15969:2021在金属表面与防护涂层深度剖析与界面分布、半导体、薄膜与电子材料深度剖析与界面分布、电池、电极与催化材料深度剖析与界面分布、高分子、胶黏剂与复合界面深度剖析与界面分布等8项仪器测试中落实标准规定的测量步骤与技术参数
取样与样品处理
记录样品状态、仪器型号、测量程序和实际采集参数
质量控制
归档校准核查、原始数据、计算过程和结果表
补充质量控制
按ISO/TR 15969:2021整理重复测量、数据处理与报告内容
方法、条件与注意事项
标准概况
ISO/TR 15969:2021《溅射深度剖析的溅射深度测量》由国际标准化组织发布，本站将其用于金属表面与防护涂层深度剖析与界面分布、半导体、薄膜与电子材料深度剖析与界面分布、电池、电极与催化材料深度剖析与界面分布、高分子、胶黏剂与复合界面深度剖析与界面分布等8项仪器测试的方法实施、数据记录和结果表达。
技术应用
- ISO/TR 15969:2021用于金属表面与防护涂层深度剖析与界面分布的溅射深度标定、成分随深度变化和界面位置分析。 - ISO/TR 15969:2021用于半导体、薄膜与电子材料深度剖析与界面分布的溅射深度标定、成分随深度变化和界面位置分析。 - ISO/TR 15969:2021用于电池、电极与催化材料深度剖析与界面分布的溅射深度标定、成分随深度变化和界面位置分析。 - ISO/TR 15969:2021用于高分子、胶黏剂与复合界面深度剖析与界面分布的溅射深度标定、成分随深度变化和界面位置分析。 - ISO/TR 15969:2021用于镀层与涂层深度剖析的辉光放电光谱采集、定量深度剖析和层厚成分计算。 - ISO/TR 15969:2021用于扩散层、渗层与氧化层分析的辉光放电光谱采集、定量深度剖析和层厚成分计算。 - ISO/TR 15969:2021用于多层膜元素分布与界面的辉光放电光谱采集、定量深度剖析和层厚成分计算。 - ISO/TR 15969:2021用于碳、氮与轻元素快速深度分析的辉光放电光谱采集、定量深度剖析和层厚成分计算。
相关仪器项目
ISO/TR 15969:2021关联以下仪器测试项目： - [金属表面与防护涂层深度剖析与界面分布](/services/instrument-testing/surface-interface/depth-profiling-and-interface-distribution/depth-profiling-and-interface-distribution-metal-surfaces-and-protective-coa) - [半导体、薄膜与电子材料深度剖析与界面分布](/services/instrument-testing/surface-interface/depth-profiling-and-interface-distribution/depth-profiling-and-interface-distribution-semiconductors-films-and-electron) - [电池、电极与催化材料深度剖析与界面分布](/services/instrument-testing/surface-interface/depth-profiling-and-interface-distribution/depth-profiling-and-interface-distribution-batteries-electrodes-and-catalyst) - [高分子、胶黏剂与复合界面深度剖析与界面分布](/services/instrument-testing/surface-interface/depth-profiling-and-interface-distribution/depth-profiling-and-interface-distribution-polymers-adhesives-and-composite-) - [镀层与涂层深度剖析](/services/instrument-testing/surface-interface/glow-discharge-optical-emission-spectroscopy-gdoes/coating-depth-profiling) - [扩散层、渗层与氧化层分析](/services/instrument-testing/surface-interface/glow-discharge-optical-emission-spectroscopy-gdoes/diffusion-case-and-oxide-layer-analysis) - [多层膜元素分布与界面](/services/instrument-testing/surface-interface/glow-discharge-optical-emission-spectroscopy-gdoes/multilayer-element-distribution-and-interfaces) - [碳、氮与轻元素快速深度分析](/services/instrument-testing/surface-interface/glow-discharge-optical-emission-spectroscopy-gdoes/rapid-carbon-nitrogen-and-light-element-profiling)
方法实施与记录
金属表面与防护涂层深度剖析与界面分布、半导体、薄膜与电子材料深度剖析与界面分布、电池、电极与催化材料深度剖析与界面分布、高分子、胶黏剂与复合界面深度剖析与界面分布等8项仪器测试按ISO/TR 15969:2021记录样品状态、仪器型号、测量程序、采集参数、校准核查、原始数据和计算结果。
项目执行内容
在金属表面与防护涂层深度剖析与界面分布、半导体、薄膜与电子材料深度剖析与界面分布、电池、电极与催化材料深度剖析与界面分布、高分子、胶黏剂与复合界面深度剖析与界面分布等8项仪器测试相关项目中，ISO/TR 15969:2021用于落实其适用的术语、样品要求、仪器条件、测量步骤、数据处理或质量控制条款。项目记录覆盖样品名称、批次、取样位置、前处理状态、仪器型号、附件配置、环境条件、程序参数和重复次数；原始曲线、图谱、图像或数值结果依照样品编号保存，计算表标明数据处理方法、统计口径和单位，技术报告列出实测条件、核心结果、图表和质量控制记录。
样品与项目信息
提供样品名称、材质、型号、批次、数量和取样位置；标明ISO/TR 15969:2021对应的待测参数和样品状态；样品编号与前处理记录、测量位置和报告用途逐项对应。
数据与质量控制
ISO/TR 15969:2021的原始曲线、图谱、图像或数值结果按样品编号归档；金属表面与防护涂层深度剖析与界面分布、半导体、薄膜与电子材料深度剖析与界面分布、电池、电极与催化材料深度剖析与界面分布、高分子、胶黏剂与复合界面深度剖析与界面分布等8项仪器测试的校准核查、对照样、重复测量和数据处理记录同步进入项目档案。
报告与交付
ISO/TR 15969:2021方法实施信息与金属表面与防护涂层深度剖析与界面分布、半导体、薄膜与电子材料深度剖析与界面分布、电池、电极与催化材料深度剖析与界面分布、高分子、胶黏剂与复合界面深度剖析与界面分布等8项仪器测试实测结果；样品信息、仪器条件、采集参数和质量控制记录；原始曲线、图谱、图像或数值结果及计算表。
官方来源
国际标准化组织发布了ISO/TR 15969:2021《溅射深度剖析的溅射深度测量》，[查看官方发布记录](https://www.iso.org/standard/80118.html)。
需要结合哪些资料
- ISO/TR 15969:2021对应的代表性样品和指定测量位置；金属表面与防护涂层深度剖析与界面分布、半导体、薄膜与电子材料深度剖析与界面分布、电池、电极与催化材料深度剖析与界面分布、高分子、胶黏剂与复合界面深度剖析与界面分布等8项仪器测试对应的批次样品和对照样
参考依据与来源
以下是本页引用的标准与方法资料。具体项目是否适用、采用哪个版本及如何判定，需结合对象、条件和委托要求确认。
共 1 项
ISO/TR 15969:2021《溅射深度剖析的溅射深度测量》由国际标准化组织发布。
标准编号：ISO/TR 15969:2021；标准名称：溅射深度剖析的溅射深度测量；发布机构：国际标准化组织。
国际标准化组织结果怎样使用
- ISO/TR 15969:2021方法实施信息与金属表面与防护涂层深度剖析与界面分布、半导体、薄膜与电子材料深度剖析与界面分布、电池、电极与催化材料深度剖析与界面分布、高分子、胶黏剂与复合界面深度剖析与界面分布等8项仪器测试实测结果
- 样品信息、仪器条件、采集参数和质量控制记录
- 原始曲线、图谱、图像或数值结果及计算表
使用结果时需要结合的事项
- 金属表面与防护涂层深度剖析与界面分布、半导体、薄膜与电子材料深度剖析与界面分布、电池、电极与催化材料深度剖析与界面分布、高分子、胶黏剂与复合界面深度剖析与界面分布等8项仪器测试的方法实施记录；溅射深度剖析的溅射深度测量对应的研发与质量控制；ISO/TR 15969:2021项目的批次比较
标准使用常见问题
01ISO/TR 15969:2021 溅射深度剖析的溅射深度测量包括哪些检测内容？
ISO/TR 15969:2021 溅射深度剖析的溅射深度测量的主要内容包括ISO/TR 15969:2021在金属表面与防护涂层深度剖析与界面分布、半导体、薄膜与电子材料深度剖析与界面分布、电池、电极与催化材料深度剖析与界面分布、高分子、胶黏剂与复合界面深度剖析与界面分布等8项仪器测试中落实标准规定的测量步骤与技术参数。 ISO/TR 15969:2021 溅射深度剖析的溅射深度测量项目表按样品形态、目标参数和报告用途列出测量项目、测试条件、重复次数、质量控制及数据处理要求。
02ISO/TR 15969:2021 溅射深度剖析的溅射深度测量需要提供哪些样品和资料？
送样包括ISO/TR 15969:2021对应的代表性样品和指定测量位置，并按批次、状态和取样位置分别编号。 ISO/TR 15969:2021 溅射深度剖析的溅射深度测量样品清单标明名称、型号、批次、取样位置、数量、状态、保存条件和处理历史，对比项目同时提交正常样、异常样或不同批次样。
03ISO/TR 15969:2021 溅射深度剖析的溅射深度测量采用什么标准和方法？
主要依据为ISO/TR 15969:2021，检测方法包括ISO/TR 15969:2021在金属表面与防护涂层深度剖析与界面分布、半导体、薄膜与电子材料深度剖析与界面分布、电池、电极与催化材料深度剖析与界面分布、高分子、胶黏剂与复合界面深度剖析与界面分布等8项仪器测试中落实标准规定的测量步骤与技术参数。 ISO/TR 15969:2021 溅射深度剖析的溅射深度测量委托确认单记录标准编号、版本、产品规范、样品条件和判定要求，多种方法联合使用时分别记录原始数据和质量控制。
04ISO/TR 15969:2021 溅射深度剖析的溅射深度测量报告包含哪些内容？
主要交付ISO/TR 15969:2021方法实施信息与金属表面与防护涂层深度剖析与界面分布、半导体、薄膜与电子材料深度剖析与界面分布、电池、电极与催化材料深度剖析与界面分布、高分子、胶黏剂与复合界面深度剖析与界面分布等8项仪器测试实测结果，内容包含样品、方法、数据和判定依据。 ISO/TR 15969:2021 溅射深度剖析的溅射深度测量报告列明样品、方法、条件、实测数据、计算结果和判定依据，可用于金属表面与防护涂层深度剖析与界面分布、半导体、薄膜与电子材料深度剖析与界面分布、电池、电极与催化材料深度剖析与界面分布、高分子、胶黏剂与复合界面深度剖析与界面分布等8项仪器测试的方法实施记录，图谱、照片、原始数据或英文信息按委托要求附入。