本页说明
ISO 24688:2022《Determination of modulation period of nano-multilayer coatings by low-angle X-ray methods》由国际标准化组织发布。ISO 24688:2022用于薄膜、涂层与半导体材料掠入射XRD GIXRD中纳米多层膜调制周期的低角X射线测定。在本站对应薄膜、涂层与半导体材料掠入射XRD GIXRD，相关项目记录样品、仪器条件、原始数据和结果。
适用对象与条件
- ISO 24688:2022用于薄膜、涂层与半导体材料掠入射XRD GIXRD中纳米多层膜调制周期的低角X射线测定。
- 薄膜、涂层与半导体材料掠入射XRD GIXRD项目中的标准应用与数据记录
- Determination of modulation period of nano-multilayer coatings by low-angle X-ray methods在薄膜、涂层与半导体材料掠入射XRD GIXRD中的标准专属应用记录
- ISO 24688:2022《Determination of modulation period of nano-multilayer coatings by low-angle X-ray methods》对应的样品、仪器条件、原始数据与结果记录
主要要求与方法
ISO 24688
ISO 24688:2022《Determination of modulation period of nano-multilayer coatings by low-angle X-ray methods》在薄膜、涂层与半导体材料掠入射XRD GIXRD中的执行重点为：ISO 24688:2022用于薄膜、涂层与半导体材料掠入射XRD GIXRD中纳米多层膜调制周期的低角X射线测定。
取样与样品处理
按Determination of modulation period of nano-multilayer coatings by low-angle X-ray methods对应的仪器项目登记样品、制样过程、测量程序和实际采集条件
质量控制
将薄膜、涂层与半导体材料掠入射XRD GIXRD的仪器型号、校准核查、空白或标准样数据与原始结果关联
保存ISO 24688
保存ISO 24688:2022项目形成的光谱、色谱、图像、曲线、计算过程和重复结果
方法、条件与注意事项
标准说明
ISO 24688:2022《Determination of modulation period of nano-multilayer coatings by low-angle X-ray methods》由国际标准化组织发布。ISO 24688:2022用于薄膜、涂层与半导体材料掠入射XRD GIXRD中纳米多层膜调制周期的低角X射线测定。在本站对应薄膜、涂层与半导体材料掠入射XRD GIXRD，相关项目记录样品、仪器条件、原始数据和结果。
标准专属应用
- ISO 24688:2022用于薄膜、涂层与半导体材料掠入射XRD GIXRD中纳米多层膜调制周期的低角X射线测定。
相关仪器项目
ISO 24688:2022在本站关联以下仪器项目： - [薄膜、涂层与半导体材料掠入射XRD GIXRD](/services/instrument-testing/phase-crystal/grazing-incidence-xrd-gixrd/grazing-incidence-xrd-gixrd-films-coatings-and-semiconductor-materials)
方法实施与记录
ISO 24688:2022《Determination of modulation period of nano-multilayer coatings by low-angle X-ray methods》在薄膜、涂层与半导体材料掠入射XRD GIXRD中的应用重点为：ISO 24688:2022用于薄膜、涂层与半导体材料掠入射XRD GIXRD中纳米多层膜调制周期的低角X射线测定。ISO 24688:2022项目实施记录包含样品与制样信息、实际仪器条件、测量程序、校准核查、原始数据和计算结果。
样品与项目信息
标明ISO 24688:2022标准编号、样品名称、材质或组成、批次、数量和报告用途；围绕薄膜、涂层与半导体材料掠入射XRD GIXRD提交待测参数、样品状态、取样位置和已有技术资料；样品包装、标识、保存和运输与Determination of modulation period of nano-multilayer coatings by low-angle X-ray methods对应的项目对象保持一致。样品编号与薄膜、涂层与半导体材料掠入射XRD GIXRD的测量位置、前处理过程和原始记录保持对应。
数据与质量控制
薄膜、涂层与半导体材料掠入射XRD GIXRD形成的光谱、色谱、图像、曲线或数值结果按ISO 24688:2022项目分别保存；Determination of modulation period of nano-multilayer coatings by low-angle X-ray methods相关的仪器状态、校准核查、空白、标准样、平行样和重复结果随原始数据归档。
报告与交付
ISO 24688:2022《Determination of modulation period of nano-multilayer coatings by low-angle X-ray methods》执行信息与薄膜、涂层与半导体材料掠入射XRD GIXRD实测结果；ISO 24688:2022项目的样品信息、仪器条件和数据记录；薄膜、涂层与半导体材料掠入射XRD GIXRD形成的原始光谱、色谱、图像、曲线或计算结果；ISO 24688:2022标准项目、质量控制、重复结果和报告结论的对应记录。报告标明ISO 24688:2022《Determination of modulation period of nano-multilayer coatings by low-angle X-ray methods》、实际关联仪器项目、样品信息、方法条件、质量控制和实测结果。
官方来源
国际标准化组织发布的ISO 24688:2022《Determination of modulation period of nano-multilayer coatings by low-angle X-ray methods》是本页标准信息来源，官方记录地址为https://www.iso.org/standard/79454.html。
需要结合哪些资料
- ISO 24688:2022用于薄膜、涂层与半导体材料掠入射XRD GIXRD中纳米多层膜调制周期的低角X射线测定；薄膜、涂层与半导体材料掠入射XRD GIXRD对应的代表性样品、平行样、对照样及项目资料
参考依据与来源
ISO 24688:2022《Determination of modulation period of nano-multilayer coatings by low-angle X-ray methods》由国际标准化组织发布。
标准编号：ISO 24688:2022；标准名称：Determination of modulation period of nano-multilayer coatings by low-angle X-ray methods；发布机构：国际标准化组织。
国际标准化组织结果怎样使用
- ISO 24688:2022《Determination of modulation period of nano-multilayer coatings by low-angle X-ray methods》执行信息与薄膜、涂层与半导体材料掠入射XRD GIXRD实测结果
- ISO 24688:2022项目的样品信息、仪器条件和数据记录
- 薄膜、涂层与半导体材料掠入射XRD GIXRD形成的原始光谱、色谱、图像、曲线或计算结果
- ISO 24688:2022标准项目、质量控制、重复结果和报告结论的对应记录
使用结果时需要结合的事项
- 薄膜、涂层与半导体材料掠入射XRD GIXRD的方法实施记录；Determination of modulation period of nano-multilayer coatings by low-angle X-ray methods对应的研发与质量控制；ISO 24688:2022项目的批次比较与结果复核
标准使用常见问题
01ISO 24688:2022主要用于哪些仪器项目？
ISO 24688:2022用于薄膜、涂层与半导体材料掠入射XRD GIXRD中纳米多层膜调制周期的低角X射线测定。 ISO 24688:2022《Determination of modulation period of nano-multilayer coatings by low-angle X-ray methods》在本站关联薄膜、涂层与半导体材料掠入射XRD GIXRD，各项目保留标准编号、样品、仪器条件、原始数据和结果记录。
02Determination of modulation period of nano-multilayer coatings by low-angle X-ray methods对应哪些样品与记录？
样品与记录围绕薄膜、涂层与半导体材料掠入射XRD GIXRD及标准专属应用说明组织。 ISO 24688:2022用于薄膜、涂层与半导体材料掠入射XRD GIXRD中纳米多层膜调制周期的低角X射线测定。项目资料关联样品名称、批次、取样位置、制样过程、仪器条件、质量控制和原始结果。
03ISO 24688:2022项目如何记录方法实施？
方法记录以ISO 24688:2022、Determination of modulation period of nano-multilayer coatings by low-angle X-ray methods和实际关联仪器项目为主线。 薄膜、涂层与半导体材料掠入射XRD GIXRD分别记录仪器型号、测量程序、采集参数、校准核查、原始图谱或曲线及计算结果。
04ISO 24688:2022报告包含哪些内容？
报告列出Determination of modulation period of nano-multilayer coatings by low-angle X-ray methods执行信息、关联项目实测结果和质量控制记录。 ISO 24688:2022报告将薄膜、涂层与半导体材料掠入射XRD GIXRD的样品信息、实际方法、仪器条件、原始数据、重复结果和结论逐项对应。