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标准解读

ISO 16413:2020 Evaluation of thickness, density and interface width of thin films by X-ray reflectometry — Instrumental requirements, alignment and positioning, data collection, data analysis and reporting

ISO 16413:2020 Instrumental Analysis Standard

ISO 16413:2020 Evaluation of thickness, density and interface width of thin films by X-ray reflectometry — Instrumental requirements, alignment and positioning, data collection, data analys。

检测内容
ISO 16413 · 取样与样品处理
适用对象
ISO 16413:2020用于薄膜厚度、密度与粗糙度的薄膜厚度、密度、界面宽度测量及XRR数据分析和报告。 · ISO 16413:2020用于多层膜结构与界面粗糙度的薄膜厚度、密度、界面宽度测量及XRR数据分析和报告。
方法标准
检测方法与执行标准
报告交付
ISO 16413:2020《Evaluation of thickness, density and interface width of thin films by X-ray reflectometry — Instrumental requirements, alignment and positioning, data collection, data analysis and reporting》实施信息与薄膜厚度、密度与粗糙度、多层膜结构与界面粗糙度、晶圆与外延层XRR测量、XRR拟合与模型不确定度实测结果 · 样品信息、仪器条件、测量参数和质量控制记录
项目受理登记对象、检测目标和报告用途
样品登记登记数量、状态和制样要求
过程质控记录检测条件并审核原始数据
报告交付交付结果、附件和技术说明
01

标准适用范围

检测范围检测内容与适用对象

ISO 16413:2020 Evaluation of thickness, density and interface width of thin films by X-ray reflectometry — Instrumental requirements, alignment and positioning, data collection, data analysis and reporting介绍标准的适用对象、有效版本、执行条件、关键步骤和结果用途。

01主要技术要求

ISO 16413

ISO 16413:2020《Evaluation of thickness, density and interface width of thin films by X-ray reflectometry — Instrumental requirements, alignment and positioning, data collection, data analysis and reporting》在薄膜厚度、密度与粗糙度、多层膜结构与界面粗糙度、晶圆与外延层XRR测量、XRR拟合与模型不确定度中按具体对象落实方法步骤和技术参数

02适用对象与场景

ISO 16413:2020用于薄膜厚度、密度与粗糙度的薄膜厚度、密度、界面宽度测量及XRR数据分析和报告。

ISO 16413:2020用于多层膜结构与界面粗糙度的薄膜厚度、密度、界面宽度测量及XRR数据分析和报告。

03委托资料与样品

样品、现象、标准版本、已有数据和结果用途

ISO 16413:2020对应的代表性样品、批次样品和指定测量位置

04报告与交付内容

标准技术要求 + 检测条件记录

ISO 16413:2020《Evaluation of thickness, density and interface width of thin films by X-ray reflectometry — Instrumental requirements, alignment and positioning, data collection, data analysis and reporting》实施信息与薄膜厚度、密度与粗糙度、多层膜结构与界面粗糙度、晶圆与外延层XRR测量、XRR拟合与模型不确定度实测结果

技术说明

项目技术要点

标准概况

ISO 16413:2020《Evaluation of thickness, density and interface width of thin films by X-ray reflectometry — Instrumental requirements, alignment and positioning, data collection, data analysis and reporting》由国际标准化组织发布,适用于薄膜厚度、密度与粗糙度、多层膜结构与界面粗糙度、晶圆与外延层XRR测量、XRR拟合与模型不确定度,标准关系覆盖样品信息、仪器条件、数据处理和结果记录。

技术应用

- ISO 16413:2020用于薄膜厚度、密度与粗糙度的薄膜厚度、密度、界面宽度测量及XRR数据分析和报告。 - ISO 16413:2020用于多层膜结构与界面粗糙度的薄膜厚度、密度、界面宽度测量及XRR数据分析和报告。 - ISO 16413:2020用于晶圆与外延层XRR测量的薄膜厚度、密度、界面宽度测量及XRR数据分析和报告。 - ISO 16413:2020用于XRR拟合与模型不确定度的薄膜厚度、密度、界面宽度测量及XRR数据分析和报告。

相关仪器项目

ISO 16413:2020关联以下仪器测试项目: - [薄膜厚度、密度与粗糙度](/services/instrument-testing/phase-crystal/x-ray-reflectometry-xrr/thin-film-thickness-density-and-roughness) - [多层膜结构与界面粗糙度](/services/instrument-testing/phase-crystal/x-ray-reflectometry-xrr/multilayer-structure-and-interface-roughness) - [晶圆与外延层XRR测量](/services/instrument-testing/phase-crystal/x-ray-reflectometry-xrr/wafer-and-epitaxial-layer-xrr) - [XRR拟合与模型不确定度](/services/instrument-testing/phase-crystal/x-ray-reflectometry-xrr/xrr-fitting-and-model-uncertainty)

方法实施与原始记录

薄膜厚度、密度与粗糙度、多层膜结构与界面粗糙度、晶圆与外延层XRR测量、XRR拟合与模型不确定度按ISO 16413:2020记录样品与制样信息、仪器型号、测量程序、实际采集参数、校准核查、原始数据和计算结果。

样品与项目信息

提交样品名称、材质或组成、型号、批次、数量、取样位置和报告用途;标明ISO 16413:2020项目的待测参数、样品状态和已有技术资料;按Evaluation of thickness, density and interface width of thin films by X-ray reflectometry — Instrumental requirements, alignment and positioning, data collection, data analysis and reporting对应对象完成样品包装、标识、保存和运输;将样品编号与批次、取样位置、前处理记录和报告用途逐项对应。样品编号与测量位置、前处理过程、批次和原始记录保持对应。

数据与质量控制

Evaluation of thickness, density and interface width of thin films by X-ray reflectometry — Instrumental requirements, alignment and positioning, data collection, data analysis and reporting的数据质量控制围绕薄膜厚度、密度与粗糙度、多层膜结构与界面粗糙度、晶圆与外延层XRR测量、XRR拟合与模型不确定度展开:光谱、图像、曲线或数值结果分别归档,并按ISO 16413:2020关联仪器状态、校准核查、标准样、平行样、重复结果和项目原始数据。

02

适用对象与应用场景

ISO 16413:2020 Evaluation of thickness, density and interface width of thin films by X-ray reflectometry — Instrumental requirements, alignment and positioning, data collection, data analysis and reporting适用于以下对象、测试目的和应用条件。

适用产品与技术问题

  • ISO 16413:2020用于薄膜厚度、密度与粗糙度的薄膜厚度、密度、界面宽度测量及XRR数据分析和报告。
  • ISO 16413:2020用于多层膜结构与界面粗糙度的薄膜厚度、密度、界面宽度测量及XRR数据分析和报告。
  • ISO 16413:2020用于晶圆与外延层XRR测量的薄膜厚度、密度、界面宽度测量及XRR数据分析和报告。
  • ISO 16413:2020用于XRR拟合与模型不确定度的薄膜厚度、密度、界面宽度测量及XRR数据分析和报告。
  • 薄膜厚度、密度与粗糙度的标准方法实施与数据记录
  • 多层膜结构与界面粗糙度的标准方法实施与数据记录
  • 晶圆与外延层XRR测量的标准方法实施与数据记录
  • XRR拟合与模型不确定度的标准方法实施与数据记录
03

委托资料与样品要求

提交标准编号和版本、产品或材料信息、样品状态、判定依据及报告用途。

  1. 01

    ISO 16413:2020对应的代表性样品、批次样品和指定测量位置

  2. 02

    薄膜厚度、密度与粗糙度、多层膜结构与界面粗糙度、晶圆与外延层XRR测量、XRR拟合与模型不确定度对应的代表性样品、平行样、对照样和项目资料

所需资料与样品资料与样品要求

ISO 16413:2020对应的代表性样品、批次样品和指定测量位置。适用版本、产品要求、现象记录和已有数据用于匹配标准与验证方案。

实施安排技术问题与检测方案

ISO 16413:2020 Evaluation of thickness, density and interface width of thin films by X-ray reflectometry — Instrumental requirements, alignment and positioning, data collection, data analysis and reporting项目列明技术问题、标准版本、样品量、执行条件与结果交付日期。

可形成的结果标准技术要求 · 检测条件记录 · 检测报告与原始记录

主要提供ISO 16413:2020《Evaluation of thickness, density and interface width of thin films by X-ray reflectometry — Instrumental requirements, alignment and positioning, data collection, data analysis and reporting》实施信息与薄膜厚度、密度与粗糙度、多层膜结构与界面粗糙度、晶圆与外延层XRR测量、XRR拟合与模型不确定度实测结果、样品信息、仪器条件、测量参数和质量控制记录,其他数据和附件在委托单中列明。

实施方式标准解读与检测执行支持

技术问题、适用标准和现有资料对应至检测项目,并完成结果复核。

04

主要技术要求

01

ISO 16413

ISO 16413:2020《Evaluation of thickness, density and interface width of thin films by X-ray reflectometry — Instrumental requirements, alignment and positioning, data collection, data analysis and reporting》在薄膜厚度、密度与粗糙度、多层膜结构与界面粗糙度、晶圆与外延层XRR测量、XRR拟合与模型不确定度中按具体对象落实方法步骤和技术参数

02

取样与样品处理

登记样品、制样过程、仪器型号、测量程序和实际采集参数

03

质量控制

关联校准核查、标准样或对照样、原始图谱、图像、曲线及计算过程

04

补充质量控制

按ISO 16413:2020整理质量控制、重复结果、数据处理过程和报告记录

05

标准实施要点

现有设备和检测能力ISO 16413:2020 Evaluation of thickness, density and interface width of thin films by X-ray reflectometry — Instrumental requirements, alignment and positioning, data collection, data analysis and reporting列明标准版本、样品条件和检测方法,并提供ISO 16413、取样与样品处理等实测数据。
01

应用场景

ISO 16413:2020 Evaluation of thickness, density and interface width of thin films by X-ray reflectometry — Instrumental requirements, alignment and positioning, data collection, data analysis and reporting覆盖研发、质量控制、验收、认证支持和争议核查。

02

标准版本

列明标准编号、年份、修订件、引用文件以及合同或产品规范要求。

03

对象与样品

ISO 16413:2020对应的代表性样品、批次样品和指定测量位置

04

确定执行条件

把ISO 16413、取样与样品处理落实为设备、环境、步骤、参数、质量控制和记录要求。

05

完成检测与复核

按规定条件实施测试,复核原始数据、计算过程、异常记录和判定依据。

06

交付结果和说明

提供ISO 16413:2020《Evaluation of thickness, density and interface width of thin films by X-ray reflectometry — Instrumental requirements, alignment and positioning, data collection, data analysis and reporting》实施信息与薄膜厚度、密度与粗糙度、多层膜结构与界面粗糙度、晶圆与外延层XRR测量、XRR拟合与模型不确定度实测结果、样品信息、仪器条件、测量参数和质量控制记录、标准版本、测试条件和相关记录。

06

版本与关联标准

资料来源标准发布与方法来源
来源资料

ISO 16413:2020《Evaluation of thickness, density and interface width of thin films by X-ray reflectometry — Instrumental requirements, alignment and positioning, data collection, data analysis and reporting》由国际标准化组织发布。

标准编号:ISO 16413:2020;标准名称:Evaluation of thickness, density and interface width of thin films by X-ray reflectometry — Instrumental requirements, alignment and positioning, data collection, data analysis and reporting;发布机构:国际标准化组织。

国际标准化组织
07

报告与交付内容

标准技术要求检测条件记录检测报告与原始记录版本与引用文件清单
ISO 16413:2020《Evaluation of thickness, density and interface width of thin films by X-ray reflectometry — Instrumental requirements, alignment and positioning, data collection, data analysis and reporting》实施信息与薄膜厚度、密度与粗糙度、多层膜结构与界面粗糙度、晶圆与外延层XRR测量、XRR拟合与模型不确定度实测结果
样品信息、仪器条件、测量参数和质量控制记录
原始光谱、图像、曲线或数值结果及报告结论
ISO 16413:2020项目的数据处理、重复结果和标准应用记录
常见报告用途
薄膜厚度、密度与粗糙度、多层膜结构与界面粗糙度、晶圆与外延层XRR测量、XRR拟合与模型不确定度的方法实施记录Evaluation of thicknessdensity and interface width of thin films by X-ray reflectometry — Instrumental requirementsalignment and positioningdata collectiondata analysis and reporting对应的研发与质量控制ISO 16413:2020项目的批次比较与结果复核
报告与结果说明

报告列明实际样品、检测方法、测试条件、结果和约定附件。

报告同步提供质量控制、数据复核和判定依据等项目记录。

样品、批次、工况或标准发生变化时,按新条件开展补充检测。

报告支持CMA/CNAS标识、合格判定及英文版本,相关要求可在需求表中注明。
08

标准应用常见问题

01ISO 16413:2020 Evaluation of thickness, density and interface width of thin films by X-ray reflectometry — Instrumental requirements, alignment and positioning, data collection, data analysis and reporting包括哪些检测内容?

ISO 16413:2020 Evaluation of thickness, density and interface width of thin films by X-ray reflectometry — Instrumental requirements, alignment and positioning, data collection, data analysis and reporting的主要内容包括ISO 16413:2020《Evaluation of thickness, density and interface width of thin films by X-ray reflectometry — Instrumental requirements, alignment and positioning, data collection, data analysis and reporting》在薄膜厚度、密度与粗糙度、多层膜结构与界面粗糙度、晶圆与外延层XRR测量、XRR拟合与模型不确定度中按具体对象落实方法步骤和技术参数。 ISO 16413:2020 Evaluation of thickness, density and interface width of thin films by X-ray reflectometry — Instrumental requirements, alignment and positioning, data collection, data analysis and reporting项目表按样品形态、目标参数和报告用途列出测量项目、测试条件、重复次数、质量控制及数据处理要求。

02ISO 16413:2020 Evaluation of thickness, density and interface width of thin films by X-ray reflectometry — Instrumental requirements, alignment and positioning, data collection, data analysis and reporting需要提供哪些样品和资料?

送样包括ISO 16413:2020对应的代表性样品、批次样品和指定测量位置,并按批次、状态和取样位置分别编号。 ISO 16413:2020 Evaluation of thickness, density and interface width of thin films by X-ray reflectometry — Instrumental requirements, alignment and positioning, data collection, data analysis and reporting样品清单标明名称、型号、批次、取样位置、数量、状态、保存条件和处理历史,对比项目同时提交正常样、异常样或不同批次样。

03ISO 16413:2020 Evaluation of thickness, density and interface width of thin films by X-ray reflectometry — Instrumental requirements, alignment and positioning, data collection, data analysis and reporting采用什么标准和方法?

主要依据为ISO 16413:2020,检测方法包括ISO 16413:2020《Evaluation of thickness, density and interface width of thin films by X-ray reflectometry — Instrumental requirements, alignment and positioning, data collection, data analysis and reporting》在薄膜厚度、密度与粗糙度、多层膜结构与界面粗糙度、晶圆与外延层XRR测量、XRR拟合与模型不确定度中按具体对象落实方法步骤和技术参数。 ISO 16413:2020 Evaluation of thickness, density and interface width of thin films by X-ray reflectometry — Instrumental requirements, alignment and positioning, data collection, data analysis and reporting委托项目单记录标准编号、版本、产品规范、样品条件和判定要求,多种方法联合使用时分别记录原始数据和质量控制。

04ISO 16413:2020 Evaluation of thickness, density and interface width of thin films by X-ray reflectometry — Instrumental requirements, alignment and positioning, data collection, data analysis and reporting报告包含哪些内容?

主要交付ISO 16413:2020《Evaluation of thickness, density and interface width of thin films by X-ray reflectometry — Instrumental requirements, alignment and positioning, data collection, data analysis and reporting》实施信息与薄膜厚度、密度与粗糙度、多层膜结构与界面粗糙度、晶圆与外延层XRR测量、XRR拟合与模型不确定度实测结果,内容包含样品、方法、数据和判定依据。 ISO 16413:2020 Evaluation of thickness, density and interface width of thin films by X-ray reflectometry — Instrumental requirements, alignment and positioning, data collection, data analysis and reporting报告列明样品、方法、条件、实测数据、计算结果和判定依据,可用于薄膜厚度、密度与粗糙度、多层膜结构与界面粗糙度、晶圆与外延层XRR测量、XRR拟合与模型不确定度的方法实施记录,图谱、照片、原始数据或英文信息按委托要求附入。