本页说明
国际电工委员会发布了IEC TS 62607-6-10:2021《Nanomanufacturing - Key control characteristics - Part 6-10: Graphene - Sheet resistance: Terahertz time-domain spectroscopy》。
适用对象与条件
- 太赫兹透射、反射与吸收中的介电基底石墨烯薄膜子项按该技术规范采用THz-TDS透射或反射波形测量方块电阻。
- 太赫兹透射、反射与吸收的适用试样与测量对象
- 本技术规范利用太赫兹时域光谱测量介电基底上石墨烯薄膜的方块电阻，适用于透射或反射方式取得的太赫兹波形。
- 在相同光路和环境下依次采集空白基底与石墨烯样品的时域波形，经频域转换和模型计算得到方块电阻。样品波形与相邻时间取得的基底波形配对计算，时域截窗和频域变换对两组数据采用相同设置。
- 保留参照与样品波形、有效频段、透射或反射响应、拟合参数、测点结果和重复测量离散性。方块电阻由复数频谱响应和所用导电模型求得，各测点结果与有效频率区间逐项对应。
主要要求与方法
主要检测内容
太赫兹透射、反射与吸收中的介电基底石墨烯薄膜子项按该技术规范采用THz-TDS透射或反射波形测量方块电阻。
质量控制
在相同光路和环境下依次采集空白基底与石墨烯样品的时域波形，经频域转换和模型计算得到方块电阻。样品波形与相邻时间取得的基底波形配对计算，时域截窗和频域变换对两组数据采用相同设置。
取样与样品处理
保留参照与样品波形、有效频段、透射或反射响应、拟合参数、测点结果和重复测量离散性。方块电阻由复数频谱响应和所用导电模型求得，各测点结果与有效频率区间逐项对应。
适用材料、器件和测量子项
适用材料、器件和测量子项
术语、符号和参数名称
术语、符号和参数名称
方法、条件与注意事项
标准用途
国际电工委员会发布了IEC TS 62607-6-10:2021《Nanomanufacturing - Key control characteristics - Part 6-10: Graphene - Sheet resistance: Terahertz time-domain spectroscopy》。 本技术规范利用太赫兹时域光谱测量介电基底上石墨烯薄膜的方块电阻，适用于透射或反射方式取得的太赫兹波形。
适用项目与测量内容
- [太赫兹透射、反射与吸收](/services/instrument-testing/optical-electrical-magnetic/terahertz-and-time-resolved-spectroscopy/terahertz-transmission-reflection-and-absorption)：太赫兹透射、反射与吸收中的介电基底石墨烯薄膜子项按该技术规范采用THz-TDS透射或反射波形测量方块电阻。
石墨烯太赫兹方块电阻测量
- 在相同光路和环境下依次采集空白基底与石墨烯样品的时域波形，经频域转换和模型计算得到方块电阻。样品波形与相邻时间取得的基底波形配对计算，时域截窗和频域变换对两组数据采用相同设置。
试样与设备
石墨烯薄膜记录基底材料、薄膜制备方式、样品尺寸、有效区域和测点分布，并配置同批次空白基底作为参照。空白基底和石墨烯样品采用相同尺寸与放置方向，测点避开褶皱、污染和基底边缘。 太赫兹时域光谱系统记录发射与探测组件、光路模式、频率范围、光斑尺寸、样品架和环境控制条件。系统时延、参考波形和有效动态范围在样品测量前检查，透射与反射配置分别保留光路参数。
数据处理与结果
保留参照与样品波形、有效频段、透射或反射响应、拟合参数、测点结果和重复测量离散性。方块电阻由复数频谱响应和所用导电模型求得，各测点结果与有效频率区间逐项对应。
报告内容
报告列出石墨烯和基底信息、测量模式、频率范围、数据处理模型、各测点方块电阻及统计结果。同时提供代表性时域波形和频谱、模型参数及测点分布，方块电阻以单点值和统计量表达。
官方来源
国际电工委员会发布了IEC TS 62607-6-10:2021《Nanomanufacturing - Key control characteristics - Part 6-10: Graphene - Sheet resistance: Terahertz time-domain spectroscopy》，[查看官方发布记录](https://webstore.iec.ch/en/publication/28888)。
需要结合哪些资料
- 石墨烯薄膜记录基底材料、薄膜制备方式、样品尺寸、有效区域和测点分布，并配置同批次空白基底作为参照。空白基底和石墨烯样品采用相同尺寸与放置方向，测点避开褶皱、污染和基底边缘；太赫兹透射、反射与吸收项目的批次试样、测量位置和对照样
参考依据与来源
IEC TS 62607-6-10:2021《Nanomanufacturing - Key control characteristics - Part 6-10: Graphene - Sheet resistance: Terahertz time-domain spectroscopy》由国际电工委员会发布。
标准编号：IEC TS 62607-6-10:2021；标准名称：Nanomanufacturing - Key control characteristics - Part 6-10: Graphene - Sheet resistance: Terahertz time-domain spectroscopy；发布机构：国际电工委员会。
国际电工委员会结果怎样使用
- 保留参照与样品波形、有效频段、透射或反射响应、拟合参数、测点结果和重复测量离散性。方块电阻由复数频谱响应和所用导电模型求得，各测点结果与有效频率区间逐项对应。
- 报告列出石墨烯和基底信息、测量模式、频率范围、数据处理模型、各测点方块电阻及统计结果。同时提供代表性时域波形和频谱、模型参数及测点分布，方块电阻以单点值和统计量表达。
- 太赫兹透射、反射与吸收的原始记录、计算表、曲线、图谱和结果表
使用结果时需要结合的事项
- 太赫兹透射、反射与吸收研发与设计；太赫兹透射、反射与吸收批次、材料或工艺比较；太赫兹透射、反射与吸收质量控制和技术报告
标准使用常见问题
01IEC TS 62607-6-10:2021适用于哪些测量对象？
本技术规范利用太赫兹时域光谱测量介电基底上石墨烯薄膜的方块电阻，适用于透射或反射方式取得的太赫兹波形。 石墨烯薄膜记录基底材料、薄膜制备方式、样品尺寸、有效区域和测点分布，并配置同批次空白基底作为参照。空白基底和石墨烯样品采用相同尺寸与放置方向，测点避开褶皱、污染和基底边缘。
02IEC TS 62607-6-10:2021如何准备试样和设备？
石墨烯薄膜记录基底材料、薄膜制备方式、样品尺寸、有效区域和测点分布，并配置同批次空白基底作为参照。空白基底和石墨烯样品采用相同尺寸与放置方向，测点避开褶皱、污染和基底边缘。 太赫兹时域光谱系统记录发射与探测组件、光路模式、频率范围、光斑尺寸、样品架和环境控制条件。系统时延、参考波形和有效动态范围在样品测量前检查，透射与反射配置分别保留光路参数。
03IEC TS 62607-6-10:2021怎样实施测量和处理数据？
在相同光路和环境下依次采集空白基底与石墨烯样品的时域波形，经频域转换和模型计算得到方块电阻。样品波形与相邻时间取得的基底波形配对计算，时域截窗和频域变换对两组数据采用相同设置。 保留参照与样品波形、有效频段、透射或反射响应、拟合参数、测点结果和重复测量离散性。方块电阻由复数频谱响应和所用导电模型求得，各测点结果与有效频率区间逐项对应。
04IEC TS 62607-6-10:2021报告包含哪些内容？
报告列出石墨烯和基底信息、测量模式、频率范围、数据处理模型、各测点方块电阻及统计结果。同时提供代表性时域波形和频谱、模型参数及测点分布，方块电阻以单点值和统计量表达。 保留参照与样品波形、有效频段、透射或反射响应、拟合参数、测点结果和重复测量离散性。方块电阻由复数频谱响应和所用导电模型求得，各测点结果与有效频率区间逐项对应。